設(shè)備工作原理

EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm（25℃）。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm（25℃），但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm（25℃）的純水。

設(shè)備工藝流程

1.新工藝一

原水（設(shè)有壓力保護）→增壓泵（一用一備）→砂過濾器→炭過濾器→硬化器（根據(jù)地區(qū)不合選用）→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→RO高壓泵→RO反滲透零碎→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端緊密過濾→設(shè)備用水（水質(zhì)可以達到16MΩ.cm以上即0.06 μs/ ㎝以下25 ℃）

2.新工藝二

原水（設(shè)有壓力保護）→增壓泵（一用一備）→砂過濾器→炭過濾器→硬化器（根據(jù)地區(qū)不合選用）→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→RO高壓泵→RO反滲透零碎→RO水箱→RO水增壓泵→淺顯混床→拋光混床→終端緊密過濾→設(shè)備用水

4.新工藝三

原水（設(shè)有壓力保護）→增壓泵（一用一備）→砂過濾器→炭過濾器→硬化器（根據(jù)地區(qū)不合選用）→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→RO高壓泵→RO反滲透零碎→RO水箱→RO水增壓泵→EDI電去離子（又稱填充床電滲析EDI/CDI）主機→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水

5.新工藝四

原水（設(shè)有壓力保護）→增壓泵（一用一備）→砂過濾器→炭過濾器→硬化器（根據(jù)地區(qū)不合選用）→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→RO高壓泵→RO反滲透零碎→RO水箱→RO水增壓泵→EDI電去離子（又稱填充床電滲析EDI/CDI）主機→去離子水（指除去了呈離子方式雜質(zhì)后的純水）箱→去離子水（指除去了呈離子方式雜質(zhì)后的純水）泵→拋光混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水

5.新工藝五

原水（設(shè)有壓力保護）→增壓泵（一用一備）→砂過濾器→炭過濾器→硬化器（根據(jù)地區(qū)不合選用）→緊密過濾器（或稱保安過濾器）→兩頭水箱→一級RO高壓泵→一級RO反滲透零碎→RO水箱→二級RO高壓泵→二級RO水箱→增壓泵→EDI（CEDI）電去離子水（指除去了呈離子方式雜質(zhì)后的純水）主機→去離子水（指除去了呈離子方式雜質(zhì)后的純水）箱→去離子水（指除去了呈離子方式雜質(zhì)后的純水）泵→拋光混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水

設(shè)備優(yōu)點

1、出水水質(zhì)具有最佳的穩(wěn)定度。

2、能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水。

3、模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)PLC全自動控制。

4、不需酸堿再生，無污水排放。

5、不會因再生而停機。