海濕亞電器設備有限公司專業(yè)生產(chǎn)手套箱超低露點除濕干燥機,模具除濕干燥機,移動式四季型除濕機,超低露點轉(zhuǎn)輪除濕機組,鋰電池轉(zhuǎn)輪除濕機,玻璃合片室轉(zhuǎn)輪除濕機,組合式轉(zhuǎn)輪除濕機組,蜂巢式轉(zhuǎn)輪除濕機, 冷凍除濕機,工業(yè)除濕機等 。
公司集產(chǎn)品設計、生產(chǎn)、銷售、工程服務于一體。借助瑞典的技術,使我們的產(chǎn)品性能指標*達到了*水平。產(chǎn)品自投放市場以來,以其技術*、*、服務周到而備受客戶依賴。
轉(zhuǎn)輪除濕機原理:
作為轉(zhuǎn)輪吸附式除濕機,其zui主要的核心部件是除濕轉(zhuǎn)輪,轉(zhuǎn)輪由特殊的超高效吸濕介質(zhì)材料,經(jīng)40多道加工工藝而合成。轉(zhuǎn)輪是一種特殊的蜂窩結構,具有等距的、平行的、均一的空氣通道。這樣,轉(zhuǎn)輪不僅具有了與空氣接觸的巨大表面積,同時提高了轉(zhuǎn)輪的吸濕效率。
轉(zhuǎn)輪在除濕機內(nèi)部分為處理區(qū)域和再生區(qū)域,除濕轉(zhuǎn)輪以8~10轉(zhuǎn)/小時的速度緩慢旋轉(zhuǎn),以保證整個除濕為一個連續(xù)的過程。
當處理空氣通過轉(zhuǎn)輪的處理區(qū)域時,其中的水蒸汽被轉(zhuǎn)輪中的吸濕介質(zhì)所吸附,水蒸氣同時發(fā)生相變,變?yōu)橐簯B(tài)水,并釋放出潛熱;這時,處理空氣因自身的水份減少而變成干空氣;之后,處理空氣由處理風機送出,變成干的、熱的空氣。
同時,在再生區(qū)域,另一路空氣先經(jīng)過再生加熱器后,變成高溫空氣(一般為100~140度)并穿過吸濕后的轉(zhuǎn)輪,使轉(zhuǎn)輪中已吸附的水份蒸發(fā),從而再生空氣因水份的蒸發(fā)而變成濕空氣,同時溫度下降;之后,再通過再生風機將濕空氣排除到室外
轉(zhuǎn)輪除濕機用途:
1:工業(yè): 軟膠囊干燥,膠體、粉類制造,涂裝、裝瓶等工序以及藥品的存儲與包裝;
2:電子工業(yè):廣泛應用一鋰電池干燥,光纖、PCB板、半導體、變壓器制造等其它電子電器領域;
3:食品加工業(yè):應用于蔬菜脫水,釀酒、巧克力、口香糖制造以及面粉加工等工藝;
4:科研:應用于物理、化學分析室、仿真環(huán)境室,文物保管室等其它恒溫恒濕環(huán)境的維持;
5:涂裝工業(yè):已大量應用于船廠及化工廠大型設備的噴砂涂裝工藝;
6:干燥倉儲:應用于鋼才、種子、紙品、橡膠、木材、家具、精密電子機械備件等儲多防潮倉儲;
7:國防軍事:用于等武器的保養(yǎng)等物資的儲藏,航天器的制造等領域;
等行業(yè)。
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無塵車間生產(chǎn)為什么要控制好濕度
發(fā)表時間:2016/8/14 23:06:38 閱讀:8 次
濕度控制是無塵車間生產(chǎn)必需具備的重要條件,相對濕度是無塵車間、潔凈室運作過程中一個常用的環(huán)境控制條件。半導體無塵車間、潔凈室中的典型的相對濕度的目標值大約控制在30至50%的范圍內(nèi),允許誤差在±1%的狹窄的范圍內(nèi),例如光刻區(qū)或者在遠紫外線處理(DUV)區(qū)甚至更小而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內(nèi)。
近年,在這些規(guī)定范圍中保持處理空氣過程,使我們必需承擔資金和運營成本。但是為什么值得花費這么多錢用在無塵車間、潔凈室中控制相對濕度呢?道理很簡單!因為相對濕度有一系列可能使?jié)崈羰铱傮w表現(xiàn)下降的因素,其中包括:
1、細菌生長;
2、工作人員感到室溫舒適的范圍;
3、出現(xiàn)靜電荷;
4、金屬腐蝕;
5、水汽冷凝;
6、光刻的退化;
7、吸水性。
細菌和其他生物污染(霉菌,病毒,真菌,螨蟲)在相對濕度超過60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對濕度超過30%時就可以增長。在相對濕度處于40%至60%的范圍之間時,可以使細菌的影響以及呼吸道感染降至zui低。
相對濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺舒適的適度范圍。濕度過高會使人覺得氣悶,而濕度低于30%則會讓人感覺干燥,皮膚破裂,呼吸道不適以及情感上的不快。
高濕度實際上減小了無塵車間、潔凈室表面的靜電荷積累──這是大家希望的結果。較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當相對濕度超過50%時,靜電荷開始迅速消散,但是當相對濕度小于30%時,它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長一段時間。
相對濕度在35%到40%之間可以作為一個令人滿意的折中,半導體無塵車間、潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。
很多化學反應的速度,包括腐蝕過程,將隨著相對濕度的增高而加快。所有暴露在無塵車間、潔凈室周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當這些表面是由可以與水反應的薄金屬涂層組成時,高濕度可以使反應加速。幸運的是,一些金屬,例如鋁,可以與水形成一層保護型的氧化物,并阻止進一步的氧化反應;但另一種情況是,例如氧化銅,是不具有保護能力的,因此,在高濕度的環(huán)境中,銅制表面更容易受到腐蝕。
當相對濕度在70%左右時,就成為顆粒之間黏附的主要力量。
到目前為止,在半導體無塵車間、潔凈室中zui迫切需要適當控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對相對濕度極為敏感的特性,它對相對濕度的控制范圍的要求是zui嚴格的水準。
實際上,相對濕度和溫度對于光刻膠穩(wěn)定性以及精確的尺寸控制都是很關鍵的。甚至是在恒溫條件下,光刻膠的粘性將隨著相對濕度的上升而迅速下降。當然,改變粘性,就會改變由固定組分涂層形成的保護膜的厚度。參考兩個城市,一個試驗證實,相對濕度的3%的變異將使保護厚度改變59.2A(原文如此)。
此外,在高的相對濕度環(huán)境下,由于水分的吸收,使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對濕度的負面影響;較低的相對濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易,甚至不需要聚合改性劑,如六甲基二硅氮烷(HMDS)。
總而言之半導體無塵車間、潔凈室中控制相對濕度不是隨意的。但是,隨著時間的變化,回顧一下常見的被普遍接受的實踐的原因和基礎。