碳材料復合聚氨酯研磨分散機
碳材料改性聚氨酯涂料高速分散機,吸波納米復合涂料高速分散機 ,碳納米管高速分散機,納米材料如何分散 ,納米涂料分散機 是 為了實現(xiàn)互不相溶相的分散,必須強力粉碎并混合其粒子。粉碎意味著必須克服表面張力的阻力來形成新表面。分散過程傳遞所需的能量,并保證兩相均質(zhì)混合。分散的長時間穩(wěn)定性會受到確切粒度分布及乳化劑和穩(wěn)定劑使用的影響。
碳材料改性聚氨酯涂料 由于納米超細粉末尺寸非常小,具有吸收電磁波的性能,它們對不同波長的雷達波和紅外線具有很強的吸收作用。因此,被納米顆粒改性后的涂料可成為軍事上用的隱身涂料。美國曾報道過一種“超”黑體納米吸收材料,即超細石墨粉納米吸波涂料,對雷達波的吸收率可達99%。國外用納米級粉、鎳粉、鐵氧體粉末已成功配制了軍事隱身涂料,涂到飛機、潛艇等武器裝備上,使其具有隱身性能。
納米材料分散
顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應,很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生
*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于*大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應有的奇異性能。
目前,國內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散,能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點,有相當多的中小企業(yè)分散設備十分落后,分散時根本形成不了剪切力,只是一種攪拌,氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網(wǎng)狀結構,從而無法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識.許多生產(chǎn)商并未意識到分散的重要性;② 不知道對*終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評價
分散方式
涂料中粉體(含納米材料)的分散主要是靠剪切力的作用。納米材料在涂料體系中的分散,一般是采用下述分散方法來達到分散效果。
研磨分散:利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn),部分研磨料進入加料縫并受到強大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強大的剪切力作用。經(jīng)過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮刀處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經(jīng)幾次循環(huán),可達到分散的目的。但用三輥機或多輥機進行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產(chǎn)的需求。
◆ 球磨分散: 通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。
◆ 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質(zhì)是用微細的珠或砂。砂磨機可連續(xù)進料,納米粉體的預混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。
◆ 高剪切分散機: 高剪切分散機的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結構,轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來強勁的動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細地分散,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復,*終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比,高剪切分散機具有效率高、能耗低等顯著優(yōu)點,是分散工藝的***。
高剪切均質(zhì)分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相固體進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時,甚***納米級時,體系可被認為均質(zhì)。當外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液。高剪切分散機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散均質(zhì),經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機的循環(huán)往復,*終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
影響分散結果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SID定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎上又開發(fā)出XRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過14000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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