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FPS 6100多功能掩膜版光刻機

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面議

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時間2021/7/13 20:02:00
訪問次數(shù)299

產(chǎn)品標(biāo)簽:

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準(zhǔn)分子清洗機，等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。同時我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等。半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有：德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機，電子束光刻機, 激光直寫光刻機，紫外光刻機，微納3D打印機，德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機，微波離子沉積機MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學(xué)/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實驗耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

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電子顯微鏡

產(chǎn)品簡介在線詢價

FPS6100傳遞的畫面質(zhì)量和生產(chǎn)效率有所提高，符合當(dāng)下更為*的多功能市場細(xì)分的要求。許多應(yīng)用和生產(chǎn)環(huán)境可以設(shè)置FPS6100：電子包裝、觸摸屏、濾色鏡、精細(xì)的金屬膜片、3D模具等等。這意味著你可以充分利用現(xiàn)行產(chǎn)品體系，同時瞄準(zhǔn)新的商機。與之前的FPS5500相比，F(xiàn)PS6100能夠提供更高的曝光速度以及更優(yōu)質(zhì)的畫面質(zhì)量。如果您的FPS系統(tǒng)是老一代的，您可以將它升級至FPS610......

FPS 6100多功能掩膜版光刻機產(chǎn)品信息

使多功能光掩模制造

具有的靈活性

FPS6100傳遞的畫面質(zhì)量和生產(chǎn)效率有所提高，符合當(dāng)下更為*的多功能市場細(xì)分的要求。

許多應(yīng)用和生產(chǎn)環(huán)境可以設(shè)置FPS6100：電子包裝、觸摸屏、濾色鏡、精細(xì)的金屬膜片、3D模具等等。這意味著你可以充分利用現(xiàn)行產(chǎn)品體系，同時瞄準(zhǔn)新的商機。

與之前的FPS5500相比，F(xiàn)PS6100能夠提供更高的曝光速度以及更優(yōu)質(zhì)的畫面質(zhì)量。如果您的FPS系統(tǒng)是老一代的，您可以將它升級至FPS6100系列，不僅節(jié)省成本同時提高經(jīng)營的能力和質(zhì)量。

主要優(yōu)勢：

生產(chǎn)效率提高，曝光速度更快，減少輔助操作時間
畫面質(zhì)量更優(yōu)質(zhì)，更小的成像單位
6種曝光水平和干板曝光的平臺可擴(kuò)展性
FPS5100/5300/5500可升級

技術(shù)指標(biāo)

FPS6100	Lvl 80	Lvl 60	Lvl 40
曝光速度[mm²/min]	525	1250	2600
最小L/S 溶解（pitch/2）	0.75	1.2	2.0
CD均勻性3σ [nm]	30	40	60
套合3σ[nm]	70	85	100
掩膜尺寸 [mm]	813x813*

FPS6100	Lvl 25	Lvl 20	Lvl 15
曝光速度[mm²/min]	6000	8000	12000
最小L/S 溶解（pitch/2）	3.5	5.0	7.0
CD均勻性3σ [nm]	80	100	200
套合3σ[nm]	120	140	160
掩膜尺寸 [mm]	813x813*

FPS6100E	Lvl 25	Lvl 20	Lvl 15
曝光速度[mm²/min]	5000	8000	12000
最小L/S 溶解（pitch/2）	6.0	8.0	12.0
CD均勻性3σ [nm]	600	700	900
套合3σ[nm]	120	140	160
掩膜尺寸 [mm]	813x813*

* 掩膜可伸展尺寸到達(dá)可選擇的1100×1100 和 900×1200

技術(shù)指標(biāo)

FPS6100	Lvl 80	Lvl 60	Lvl 40
曝光速度[mm²/min]	525	1250	2600
最小L/S 溶解（pitch/2）	0.75	1.2	2.0
CD均勻性3σ [nm]	30	40	60
套合3σ[nm]	70	85	100
掩膜尺寸 [mm]	813x813*

FPS6100	Lvl 25	Lvl 20	Lvl 15
曝光速度[mm²/min]	6000	8000	12000
最小L/S 溶解（pitch/2）	3.5	5.0	7.0
CD均勻性3σ [nm]	80	100	200
套合3σ[nm]	120	140	160
掩膜尺寸 [mm]	813x813*

FPS6100E	Lvl 25	Lvl 20	Lvl 15
曝光速度[mm²/min]	5000	8000	12000
最小L/S 溶解（pitch/2）	6.0	8.0	12.0
CD均勻性3σ [nm]	600	700	900
套合3σ[nm]	120	140	160
掩膜尺寸 [mm]	813x813*