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英國(guó)Oxford OpAL 開(kāi)放式樣品載入原子沉積(ALD)設(shè)備

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/13 20:22:48
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)224
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專(zhuān)業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶(hù)特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠(chǎng)家高性?xún)r(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶(hù)提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶(hù)群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶(hù)需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性?xún)r(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶(hù)提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
英國(guó)Oxford OpAL 開(kāi)放式樣品載入原子沉積(ALD)設(shè)備,提供了專(zhuān)業(yè)的熱ALD設(shè)備,可以簡(jiǎn)單明了的升級(jí)使用等離子體,使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ALD。
英國(guó)Oxford OpAL 開(kāi)放式樣品載入原子沉積(ALD)設(shè)備 產(chǎn)品信息

英國(guó)Oxford OpAL 開(kāi)放式樣品載入原子沉積(ALD)設(shè)備


緊湊型開(kāi)放式樣品載入原子層沉積(ALD)系統(tǒng)

OpAL提供了專(zhuān)業(yè)的熱ALD設(shè)備,可以簡(jiǎn)單明了的升級(jí)使用等離子體,使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ALD。

開(kāi)放式樣品載入熱ALD,集成等離子體技術(shù)
現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)到可使用等離子體
從小晶片到200mm大晶片

適用于學(xué)術(shù)、產(chǎn)業(yè)、研發(fā)的熱和/或等離子體化學(xué)產(chǎn)品,可用于:

氧化物: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
氮化物:TiN, Si3N4
金屬: Ru, Pt

ALD應(yīng)用舉例:

納米電子學(xué)
高k柵極氧化物
存儲(chǔ)電容器絕緣層-銅連線(xiàn)間的高縱橫比擴(kuò)散勢(shì)壘區(qū)
有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無(wú)針孔鈍化層
鈍化晶體硅太陽(yáng)能電池
應(yīng)用于微流體和MEMS的高保形涂層
納米孔結(jié)構(gòu)的涂層
生物微機(jī)電系統(tǒng)
燃料電池

直觀(guān)性強(qiáng)的的軟件提高性能

使用與牛津儀器的值得信賴(lài)的Plasmalab ®產(chǎn)品家族相同的軟件平臺(tái), OpAL的程序驅(qū)動(dòng)、多用戶(hù)級(jí)別、PC2000TM控制的軟件易于操作且可為快速ALD做相應(yīng)修改。

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