英國(guó)Oxford OpAL 開(kāi)放式樣品載入原子沉積(ALD)設(shè)備
緊湊型開(kāi)放式樣品載入原子層沉積(ALD)系統(tǒng)
OpAL提供了專(zhuān)業(yè)的熱ALD設(shè)備,可以簡(jiǎn)單明了的升級(jí)使用等離子體,使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ALD。
開(kāi)放式樣品載入熱ALD,集成等離子體技術(shù)
現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)到可使用等離子體
從小晶片到200mm大晶片
適用于學(xué)術(shù)、產(chǎn)業(yè)、研發(fā)的熱和/或等離子體化學(xué)產(chǎn)品,可用于:
氧化物: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
氮化物:TiN, Si3N4
金屬: Ru, Pt
ALD應(yīng)用舉例:
納米電子學(xué)
高k柵極氧化物
存儲(chǔ)電容器絕緣層-銅連線(xiàn)間的高縱橫比擴(kuò)散勢(shì)壘區(qū)
有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無(wú)針孔鈍化層
鈍化晶體硅太陽(yáng)能電池
應(yīng)用于微流體和MEMS的高保形涂層
納米孔結(jié)構(gòu)的涂層
生物微機(jī)電系統(tǒng)
燃料電池
直觀(guān)性強(qiáng)的的軟件提高性能
使用與牛津儀器的值得信賴(lài)的Plasmalab ®產(chǎn)品家族相同的軟件平臺(tái), OpAL的程序驅(qū)動(dòng)、多用戶(hù)級(jí)別、PC2000TM控制的軟件易于操作且可為快速ALD做相應(yīng)修改。