LP2000/4 (膠體磨塊) | |
功率 | 2.2KW |
轉(zhuǎn)速 | 0-14000rpm |
線速度 | 0-40m/s |
尺寸(長X寬X高) | (450X250X3500)mm |
重量 | 30KG |
操作條件 | 0-2.5bar |
實(shí)驗(yàn)室膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力,透過實(shí)驗(yàn)室膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
CM2000/4實(shí)驗(yàn)室膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì),te別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室膠體磨的線速度很高,剪切間隙fei常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
實(shí)驗(yàn)室膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī),但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。 物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí),須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。
公司另外一項(xiàng)du特的chuang新,就是錐體磨CMO2000系列,它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)chuang新,CMO2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級(jí)調(diào)節(jié),從而可以得到j(luò)ing確的研磨參數(shù)。研磨頭的表面涂上了一層ji qi堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有fei常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有qiang lie剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和#后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。
|