品名：紫外線光清洗燈
品牌：SBR
參數(shù)：
類型：G形紫外光清洗燈管 型號：SUV—110G 特殊照明：紫外線光
管徑（D）：17.5 管莊（V）：130 ±5 電流（MA）：900
功率（W）：95 弧長：（mm）160
一、光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍
光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣泛，目前在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
1.在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；
2.印制電路板生產(chǎn)中，對銅底板，印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級時，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
3.大規(guī)模集成電路的密度越來越高，晶格的微細(xì)化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。
4.在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。
5.在光盤的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備，可以提高光盤的質(zhì)量。
6.磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗后效果更好。
7.石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。
8.在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
9彩.色濾光片生產(chǎn)中，光清洗后能洗凈表面的有機(jī)污染物。
10.敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過光照改質(zhì)，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層，產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高。
11.光學(xué)玻璃經(jīng)過紫外光清洗后，鍍膜質(zhì)量更好。
12.樹脂透鏡光照后，能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。
13.對清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環(huán)氧樹脂、焊劑，以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導(dǎo)電聚酰亞胺粘合劑上的有機(jī)污染物，光清洗是十分有效的方法。
二、紫外光表面清洗和改質(zhì)的工作原理
低壓紫外汞燈發(fā)射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后，與有機(jī)污染物發(fā)生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能，從而提高物體表面的浸潤性和粘合強(qiáng)度，或者使材料表面得到穩(wěn)定的表面性能。根據(jù)不同需要，既可以對物體進(jìn)行紫外光表面清洗，也可以進(jìn)行紫外光表面改質(zhì)（或叫表面改善），紫外光表面清洗和改質(zhì)的機(jī)理有相同點(diǎn)，但也有區(qū)別。
1.紫外光清洗工作原理
VUV低壓紫外汞燈能同時發(fā)射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應(yīng)過程是連續(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。
2 .紫外光改質(zhì)工作原理
低壓紫外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長的紫外光除有清洗去除物體表面的有機(jī)污染物的功能外，而且還能夠進(jìn)行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來的活性氧（O）生成極性很強(qiáng)的原子團(tuán)（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時材料表面有機(jī)污染物的清洗，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結(jié)合，形成新的化學(xué)鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強(qiáng)的粘結(jié)強(qiáng)度，或者使材料得到穩(wěn)定的表面性能。
三、紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)的性
1.光清洗技術(shù)是隨著當(dāng)代光電子信息技術(shù)發(fā)展起來的，光電子產(chǎn)品的高性能、微型化要求表面潔凈度越來越高，常規(guī)的清洗方法（如水洗、化學(xué)溶液洗、超聲波清洗等）已不能滿足要求，UV光清洗能夠達(dá)到常規(guī)的清洗方法難以達(dá)到的高清潔度，而且不存在三廢處理問題，有利于環(huán)境保護(hù)。
2.光清洗是在常溫、常壓的環(huán)境中進(jìn)行的，是一種非接觸式的干法清洗技術(shù)。光清洗時被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，因?yàn)橛袡C(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走，不可能重返被清洗的表面，不會像溶液清洗時發(fā)生二次污染。
3.一般情況下，光清洗的表面不會受到損傷，由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
4.光清洗對物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的性。
5.世界上工業(yè)化國家已經(jīng)開始將光清洗技術(shù)由光電產(chǎn)品向金屬、光學(xué)、塑料、橡膠等相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)過程發(fā)展，光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣闊，具有很強(qiáng)的技術(shù)生命力。
臭氧殺菌燈就是利用低壓水銀燈管中產(chǎn)生的185nm波長的紫外線輻射激發(fā)使雙原子氧氣分解形成臭氧的機(jī)理來產(chǎn)生臭氧的。臭氧極易分解，很不穩(wěn)定，具有強(qiáng)氧化性，有四大功用：氧化、滅菌、脫色、除味。所以臭氧常用于水的消毒和空氣的臭氧化，凈化空氣，漂白飲用水，殺菌消毒，迅速而的消除空氣中、水中的各種異味。在化學(xué)工業(yè)中用作強(qiáng)氧化劑，處理工業(yè)廢物和作為漂白劑。在常溫下可使許多有機(jī)色素脫色，很容易氧化有機(jī)不飽和化合物，漂白物體表面的臟污及染劑的顏色，并可殺菌及分解雜質(zhì)。減少水源污染，不會有化學(xué)洗滌劑殘留。此外，臭氧還可以氧化、分解水中的污染物，對除嗅味、脫色、殺菌、去除酚、氰、鐵、錳和降低COD、BOD等都具有顯著的效果。
紫外光表面清洗技術(shù)在國際上是隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來的。七十年代中期美事電子技術(shù)和器件實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國在較長的時間里紫外光表面清洗技術(shù)主要在軍事領(lǐng)域中進(jìn)行研究性應(yīng)用。直到九十年代初，日本和美國先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程，并開始向我國個別外資LCD企業(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV光清洗機(jī)。隨后，日本在發(fā)展紫外光表面清洗技術(shù)的同時，紫外光表面改質(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)展。在二十世紀(jì)末，日本等工業(yè)國家紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)由信息產(chǎn)業(yè)逐步擴(kuò)展到金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過程。二十世紀(jì)九十年代后期，我國的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人的速度飛速發(fā)展，特別是平板顯示技術(shù)的高速發(fā)展，LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產(chǎn)品也開始進(jìn)入市場。由此，對制備工藝過程表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)格，紫外光表面清洗技術(shù)的性已經(jīng)得到廣泛認(rèn)可，UV光清洗機(jī)的需求量正在不斷增長。
采購中心
