HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽、光學(xué)玻璃、核材料等。

GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具，非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析，操作簡單、便于維護(hù)，是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。

· 使用脈沖式射頻輝光源，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。

·  采用多項(xiàng)技術(shù)，如高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器（HDD），可測(cè)試ppm-100%的濃度范圍，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

·  分析速度快（2-10nm/s）

HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀技術(shù)參數(shù)：

1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短，表面信息無任何失真。

2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

3、Polyscan多道（同時(shí)）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm，可測(cè)試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。

4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量，因而擁有很好的光效率和靈敏度。

5、高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器（HDD）可快速、高靈敏的檢測(cè)ppm-100%含量的元素。動(dòng)態(tài)范圍為5×1010。

6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。

7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測(cè)報(bào)告。

8、HORIBA的單色儀（選配）可大地提高儀器靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測(cè)試，稱為n+1。

9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。