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詳細(xì)介紹
快速熱處理退火爐簡(jiǎn)稱 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），由我公司借鑒了國(guó)際*制造工藝，在管式爐的基礎(chǔ)上自主研發(fā)而成，不但擁有極快的升溫速率500℃/S，而且降溫速率也有了質(zhì)的飛躍100℃/S。我們的工程師們巧妙地利用了冷壁工藝，以至于達(dá)到如此快的降溫速度。真正的極速升溫和極速降溫！
腔體采用了雙層石英管結(jié)構(gòu)，外層管進(jìn)氣，內(nèi)層管出氣，使得反應(yīng)氣氛與加工樣品充分而均勻地接觸。
加熱燈管之所以能夠讓硅片快速升溫，是因?yàn)楣庠床ㄩL(zhǎng)在0.3-4微米之間，石英管壁無(wú)法有效吸收這一波段的輻射，而晶片則正好相反。因此，晶片可以吸收輻射能量快速加熱，而此時(shí)石英管壁仍維持低溫，即所謂冷壁工藝。
應(yīng)用領(lǐng)域
Ø 快速熱退火 (RTA); 離子注入后退火
Ø 石墨烯等氣象沉積，碳納米管等外延生長(zhǎng)
Ø 快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);
Ø 硅化 (Silicidation);
Ø 擴(kuò)散 (Diffusion);
Ø 離子注入后退火 (Implant Annealing);
Ø 電極合金化 (Contact Alloying);
Ø 晶向化和堅(jiān)化 (Crystallization and Densification);
主要特點(diǎn)
Ø 極速升溫100℃/S，極速降溫100℃/S；
Ø 雙層爐管結(jié)構(gòu)，氣氛與樣品接觸更均勻；
Ø 直接測(cè)量樣品表面溫度，測(cè)溫更精準(zhǔn)；
Ø 爐膛根據(jù)設(shè)置可自動(dòng)左右移動(dòng)，可以滿足更多的實(shí)驗(yàn)應(yīng)用；
Ø 真空度可達(dá)7.4×10-4Pa；
| 型號(hào) | * 溫度 | 升溫速率 ℃/S | 降溫速率 | 管徑 | 處理晶片 | 加熱區(qū) | 恒溫區(qū)±2℃ | 外形尺寸mm | 功率 | 重量 | ||
| ℃/S | (內(nèi))mm | 尺寸 in | 長(zhǎng)度mm | 長(zhǎng)度mm | 寬 | 深 | 高 | 千克 | ||||
| RTP1100 | 1100℃ | 100 | 100 | 103 | 4″ | 200 | 150 | 800 | 540 | 750 | 5.0kw | 45 |
*800℃以上保溫時(shí)間超過(guò)1分鐘會(huì)影響降溫速度，保溫10分鐘以上，需選配法蘭水冷套。
原創(chuàng)作者：廈門(mén)科朋儀器有限公司
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