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詳細(xì)介紹
UV光解凈化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線(xiàn)光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
利用高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O- O＊(活性氧)O O2→O3(臭氧),臭氧對(duì)有機(jī)物具有的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有的清除效果。
惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線(xiàn)光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的．
它具有適應(yīng)性強(qiáng)、運(yùn)行成本低、設(shè)備占在面積小等特點(diǎn)，應(yīng)該應(yīng)用于煉油廠(chǎng)、橡膠廠(chǎng)、化工廠(chǎng)、制藥廠(chǎng)、污水處理廠(chǎng)、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、餐廚垃圾處理廠(chǎng)、飼料廠(chǎng)、印染廠(chǎng)、噴涂廠(chǎng)等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。
技術(shù)原理：
半導(dǎo)體光催化劑大多是n型半導(dǎo)體材料（當(dāng)前以為T(mén)iO2使用泛）都具有區(qū)別于金屬或絕緣物質(zhì)的特別的能帶結(jié)構(gòu),即在價(jià)帶(ValenceBand,VB)和導(dǎo)帶(ConductionBand,CB)之間存在一個(gè)禁帶(ForbiddenBand,BandGap)。由于半導(dǎo)體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關(guān)系,因此常用的寬帶隙半導(dǎo)體的吸收波長(zhǎng)閾值大都在紫外區(qū)域。當(dāng)光子能量高于半導(dǎo)體吸收閾值的光照射半導(dǎo)體時(shí),半導(dǎo)體的價(jià)帶電子發(fā)生帶間躍遷,即從價(jià)帶躍遷到導(dǎo)帶,從而產(chǎn)生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時(shí)吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負(fù)離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負(fù)離子和氫氧自由基具有很強(qiáng)的氧化性,能將絕大多數(shù)的有機(jī)物氧化至最終產(chǎn)物CO2和H2O,甚至對(duì)一些無(wú)機(jī)物也能分解。
常見(jiàn)的光催化劑多為金屬氧化物和硫化物，如Tio2, ZnO,CdS,WO3等，其中Tio2的綜合性能，應(yīng)用。自1972年Fujishima和Honda發(fā)現(xiàn)在受輻照的Tio2上可以持續(xù)發(fā)生水的氧化還原反應(yīng)，并產(chǎn)生H2以來(lái)，人們對(duì)這一催化反應(yīng)過(guò)程進(jìn)行了大量研究。結(jié)果表明，Tio2具有良好的抗光腐蝕性和催化活性，而且性能穩(wěn)定，價(jià)廉易得，無(wú)毒無(wú)害，是目前的光催化劑。該項(xiàng)技術(shù)不僅在廢水凈化處理方面具有巨大潛力，在空氣凈化方面同樣具有廣闊的應(yīng)用前景。
光催化劑納米粒子在一定波長(zhǎng)的光線(xiàn)照射下受激生成電子—空穴對(duì)，空穴分解催化劑表面吸附的水產(chǎn)生氫氧自由基，電子使其周?chē)难踹€原成活性離子氧，從而具備的氧化—還原作用，將光催化劑表面的各種污染物摧毀 。
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