電子行業(yè)制氮機(jī)

電子行業(yè)用制氮機(jī)

      氮?dú)庠诟餍懈鳂I(yè)當(dāng)中應(yīng)用廣泛?？捎糜陔娮赢a(chǎn)品的封裝、燒結(jié)、退火、還原、儲(chǔ)存等。主要應(yīng)用于波峰焊、回流焊、水晶、壓電、電子陶瓷、電子銅帶、電池、電子合金材料等行業(yè)。電子行業(yè)對(duì)氮?dú)庖笠话惚容^高，通常需要99.9%或99.99%、以及99.99%以上的氮?dú)狻?br style="-webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0);">      電子工業(yè)   半導(dǎo)體和集成電路制造過程的氣氛保護(hù)，清洗，化學(xué)品回收等。
      大規(guī)模集成電路、彩電顯像管、電視機(jī)和收錄機(jī)元件及半導(dǎo)體元件處理的氮?dú)庠础?br style="-webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0);">      在電子元件和半導(dǎo)體元件的生產(chǎn)過程中，需要采用純度達(dá)99.999%以上的氮?dú)庾鳛楸Ｗo(hù)氣體。目前，我國(guó)已將高純氮作為載氣和保護(hù)氣應(yīng)用于彩電顯像管、大規(guī)模集成電路、液晶及半導(dǎo)體硅片等生產(chǎn)過程。

工藝架構(gòu)：

1. 空氣壓縮機(jī)：空氣通過空氣壓縮機(jī)進(jìn)行收集和壓縮，為氧氣發(fā)生器提供氣源。參考指標(biāo):電壓和功率。

2.四級(jí)過濾器：空氣凈化作用。可以過濾壓縮空氣當(dāng)中的顆粒，水，油，粉塵。過濾精度達(dá)到0.01ppm。

3.冷凍干燥機(jī)：通常進(jìn)入空氣網(wǎng)的壓縮空氣都含有99%的水蒸汽。當(dāng)空氣冷卻時(shí)蒸汽便會(huì)凝結(jié)，所以不僅會(huì)破壞壓縮空氣系統(tǒng)，還會(huì)對(duì)最終產(chǎn)品造成損壞。空氣經(jīng)過冷凍干燥機(jī)的干燥處理，可以保證設(shè)備系統(tǒng)健康運(yùn)行。

(當(dāng)空氣露點(diǎn)≦45℃，另外選配吸附式干燥機(jī)，對(duì)低露點(diǎn)氣源進(jìn)行二次處理)

4.空氣儲(chǔ)存罐：空氣經(jīng)過一定帶壓設(shè)備的處理，需要在進(jìn)入下一個(gè)組件之前，穩(wěn)定和緩沖壓力的作用。一級(jí)和二級(jí)兩只儲(chǔ)氣罐。

5.氧氣發(fā)生器：采用PSA變壓吸附工藝，通過分子篩吸附和脫附的相互交替，實(shí)現(xiàn)氧氮分離。

6.氧氣儲(chǔ)存罐：從氧氣發(fā)生器出來的合格氧氣，通過管道輸送到氧氣儲(chǔ)罐中。氧氣罐自帶安全閥，當(dāng)壓力達(dá)到一定的數(shù)值，安全閥會(huì)自動(dòng)泄放壓力，使整個(gè)系統(tǒng)處于安全的工作環(huán)境。

技術(shù)特點(diǎn)

1、原料空氣取自自然，只需提供壓縮空氣和電源即可制取氮?dú)?。設(shè)備能耗低，運(yùn)行成本費(fèi)用少。

2、氮?dú)饧兌日{(diào)整方便，氮?dú)饧兌戎皇艿獨(dú)馀艢饬康挠绊?，普通制氮純度?5%－99.999%之間任意調(diào)節(jié)；高純度制氮機(jī)可在99%－99.999%之間任意調(diào)節(jié)。

3、設(shè)備自動(dòng)化程度高，產(chǎn)氣快，可無人值守。啟動(dòng)、關(guān)機(jī)只需按一下按鈕，開機(jī)20-40分鐘內(nèi)即可產(chǎn)生氮?dú)狻?/span>

4、設(shè)備工藝流程簡(jiǎn)單，設(shè)備結(jié)構(gòu)外形緊湊，占地面積小，設(shè)備裝置適應(yīng)性強(qiáng)。

5、暴風(fēng)雪法裝填分子篩，避免高壓氣流沖擊導(dǎo)致分子篩粉化現(xiàn)象，確保分子篩長(zhǎng)時(shí)間使用。

6、數(shù)顯流量計(jì)帶壓力補(bǔ)償、高精度的工業(yè)過程監(jiān)控二次儀表，具有瞬時(shí)流量及累積計(jì)算的功能。

7、在線分析儀濃度檢測(cè)，高精度，免維護(hù)。

8、不合格氣動(dòng)自動(dòng)放空，無需人為，保證工作效率。

9、可設(shè)計(jì)不合格純度報(bào)警，

10、預(yù)留PLC的通訊接口（RS485），與買方上位機(jī)通訊。

技術(shù)指標(biāo)參數(shù)：

流量：3~2000nm³/hr

純度：≥95-99.999%

壓力：0.01-0.8Mpa(以內(nèi)可調(diào))

露點(diǎn)：-45℃

氧含量：≤5ppm

過濾精度：0.001ppm