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WMZ-9190研究型硅片檢測(cè)顯微鏡

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  • WMZ-9190研究型硅片檢測(cè)顯微鏡

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更新時(shí)間:2024-07-02 11:40:01瀏覽次數(shù):98

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

大視野目鏡:10X無(wú)限遠(yuǎn)長(zhǎng)工作距離明暗場(chǎng)物鏡:5X 10X 40X 60X 100X支持光學(xué)放大:50X-1000X

詳細(xì)介紹

                                         

 

    一、用途

WMZ-9190明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭. 本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的"金字塔" 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器

硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等,造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象,使磨片不合格太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過(guò)程中常用的檢測(cè)儀器之一.


目鏡







 

PL L5X/0.12    工作距離:26.1 mm






PL L40X/0.60   工作距離:3.98 mm






PL L100X/0.90  工作距離:2.2 mm  (干式)

30?傾斜,瞳距調(diào)節(jié)范圍53~75mm. 

粗微動(dòng)同軸調(diào)焦,帶鎖緊和限位裝置,微動(dòng)格值:2μm.

五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位

雙層機(jī)械移動(dòng)式載物臺(tái)外形尺寸:210mmX140mm,移動(dòng)范圍:63mmX50mm

6V30W鹵素?zé)簦炼瓤烧{(diào)

內(nèi)置視場(chǎng)光欄、孔徑光欄、濾色片轉(zhuǎn)換裝置、推拉式檢偏器與起偏器

阿貝聚光鏡NA.1.25可上下升降





配置藍(lán)濾色片與磨砂玻璃片






防霉







 

系統(tǒng)組成

1.硅片檢測(cè)顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器(CCD) 4.計(jì)算機(jī)(選購(gòu)) 

1、硅片檢測(cè)顯微鏡 2、適配鏡 3、數(shù)碼相機(jī)(選購(gòu))

分劃目鏡10X(Φ22mm

明場(chǎng)物鏡 20X、50X、80X

0.5X1X、0.5X帶分劃尺

USB輸出:130/300/500/1000萬(wàn)像素

CANON(EF) NIKON(F)

二維圖像測(cè)量分析軟件







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