超細(xì)粉體膠體磨，超細(xì)粉體研磨設(shè)備，納米粉體膠體磨，超細(xì)粉體研磨機(jī)，超細(xì)粉體高速剪切膠體磨，納米膠體磨，超細(xì)膠體磨

超細(xì)粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于超細(xì)粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致超細(xì)粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面，在復(fù)合材料的制備過程中，由于超細(xì)粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異，超細(xì)粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料，是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。

               

所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散，盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。

膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機(jī)采用zuijia幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

高剪切膠體磨運(yùn)行原理：

高剪切膠體磨在電動機(jī)的高速轉(zhuǎn)動下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細(xì)，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的zui小細(xì)度可達(dá)0.5um。

               
IKN膠體磨結(jié)構(gòu)：

三道磨碎區(qū)：一級為粗磨碎區(qū)，二級為細(xì)磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。

我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

CM2000系列的特點：

1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

CM2000系列超細(xì)粉體膠體磨設(shè)備選型表

型號	流量 L/H	輸出轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	馬達(dá)功率 KW	出/入口連接
CM2000/4	700	9，000	23	2.2	DN25/DN15
CM2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
CM2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
CM2000/20	20，000	2，850	23	37	DN80/DN65
CM2000/30	40，000	1，420	23	55	DN150/DN125
CM2000/50	80，000	1，100	23	110	DN200/DN150

注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10% 

 

IKN的CM2000系列和國內(nèi)設(shè)備相比

 

	三級結(jié)構(gòu)	磨頭結(jié)構(gòu)	轉(zhuǎn)速	zui大線速度	模塊頭	密封類型	產(chǎn)品效果
國內(nèi)設(shè)備	溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣	溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下	目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié)，若通過變頻調(diào)節(jié)，他們的軸承不能承受高速運(yùn)轉(zhuǎn)。一般在3000RPM（這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。）	大約在10-15M/S	只有一種模塊頭	單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀	粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差
IKN 上海依肯	溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺	斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大	可以通過變頻調(diào)速，轉(zhuǎn)速可達(dá)7890/13789RPM ，通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細(xì)度更小)	23-40 M/S	可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊	雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運(yùn)轉(zhuǎn)	可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工

 

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