上海思峻機械設(shè)備有限公司
主營產(chǎn)品: 乳化機,均質(zhì)機,分散機,粉液混合機,膠體磨,研磨分散機 |
上海思峻機械設(shè)備有限公司
主營產(chǎn)品: 乳化機,均質(zhì)機,分散機,粉液混合機,膠體磨,研磨分散機 |
參考價 | ¥ 87500 |
訂貨量 | 1件 |
產(chǎn)地 | 進口 | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
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一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞
薄膜漿料剪切研磨分散機,銦錫氧化物剪切研磨分散機,高剪切研磨分散設(shè)備,導(dǎo)電聚合物研磨分散設(shè)備,德國進口高剪切研磨設(shè)備,高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備
二、研磨分散機的設(shè)計
SGN薄膜漿料高剪切研磨分散機的設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
LED已廣泛應(yīng)用于高效固態(tài)照明領(lǐng)域中,如顯示屏、汽車用燈、背光源、交通信號燈、景觀照明等。
ITO是一種-氧化銦錫,ITO結(jié)構(gòu)存在以下缺陷。出光需要從薄膜透射出去,使出光強度不高。
可以通過研磨設(shè)備將其聚合物進行細化,均勻分散,這也就可以達到混合均勻細化的效果,可以順利通過過濾網(wǎng),即達要求。
三、研磨分散機的結(jié)構(gòu)
薄膜漿料高剪切研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
四、GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。
分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
GMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
五、研磨分散機的特點
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
六、從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。
GMD2000水粉顏料研磨分散機 ¥ 98000
GMD2000石墨烯/云母粉導(dǎo)電涂料研磨分散機 ¥ 98000
GMSD2000阻燃聚氨酯材料研磨分散機 ¥ 90000
GMSD2000聚酰亞胺薄膜研磨分散機 ¥ 108000