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武漢格特機電設備有限公司


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半導體真空無氧烘箱

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參   考   價: 12450

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號GT-BIR-32L

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地武漢市

聯(lián)系方式:嚴生查看聯(lián)系方式

更新時間:2024-10-09 09:03:06瀏覽次數(shù):88次

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產(chǎn)品簡介
材料 碳鋼 產(chǎn)地 國產(chǎn)
產(chǎn)品大小 中型 產(chǎn)品新舊 全新
加熱方式 電加熱式 結(jié)構(gòu)類型 立式
自動化程度 半自動    

半導體真空無氧烘箱是專為半導體行業(yè)設計的一種高精度、高效率的烘箱設備,是一種提供高溫、低氧、潔凈環(huán)境的特殊制程設備。

詳細介紹

半導體真空無氧烘箱作原理

抽真空:通過高效的真空泵系統(tǒng),將烘箱內(nèi)部抽至接近真空狀態(tài),有效消除空氣中的氧氣、水分及其他雜質(zhì),為材料處理提供一個極為純凈的環(huán)境。這一步驟是防止材料在高溫下發(fā)生氧化、變色或性能退化的關鍵。

充氮氣:向烘箱內(nèi)充入高純度的氮氣,氮氣作為惰性氣體,能有效隔絕氧氣,進一步保護材料免受氧化影響。

加熱:利用加熱元件對烘箱內(nèi)部進行均勻加熱,實現(xiàn)對材料的快速、高效烘干處理。


半導體真空無氧烘箱技術特點

高效節(jié)能:由于真空環(huán)境下水的沸點降低,烘干時間大大縮短,能源利用效率顯著提高。

無氧環(huán)境:通過嚴格的真空和氮氣保護,確保了材料在固化過程中不會受到氧氣、水分等雜質(zhì)的干擾,從而保持了其優(yōu)異的性能。

均勻加熱:烘箱內(nèi)部采用加熱系統(tǒng)和循環(huán)風設計,確保溫度分布均勻,避免了局部過熱或溫度不均的問題。

精確控制:現(xiàn)代半導體真空烘箱普遍配備有智能控制系統(tǒng),能夠精確控制溫度、真空度及氮氣流量等參數(shù),實現(xiàn)自動化操作。

適用范圍廣:適用于多種物料的干燥,包括粉體、顆粒、片狀、薄膜等,以及需要避免氧化或高溫下變質(zhì)的物料。

自動化程度高:現(xiàn)代真空無氧烘箱通常配備有控制系統(tǒng)和人機交互界面,能夠?qū)崿F(xiàn)自動化操作和遠程監(jiān)控,提高生產(chǎn)效率和安全性。

保護物料:在無氧環(huán)境下進行干燥,可以有效避免物料在高溫下與氧氣發(fā)生反應,從而保護物料的色澤、氣味和營養(yǎng)價值等。

清潔度高:烘箱內(nèi)部通常采用不銹鋼等耐腐蝕材料制成,易于清潔和維護,保證了物料在干燥過程中的清潔度。

靈活性好:烘箱的設計通常具有一定的靈活性,可以根據(jù)物料的特性和干燥要求進行調(diào)整和優(yōu)化,如調(diào)整加熱功率、真空度等參數(shù)。


應用領域

1、光刻工藝:在半導體制造的光刻工藝中,BCB(苯并環(huán)丁烯樹脂)作為一種活性樹脂,廣泛應用于晶圓表面的涂層。BCB在350℃的無氧條件下能形成熱固性聚合物,具有良好的電絕緣性能。真空無氧烘箱通過創(chuàng)造無氧環(huán)境,確保BCB在高溫下穩(wěn)定固化,避免了氧化反應對材料性能的影響。

2、MEMS智能傳感器芯片生產(chǎn):MEMS(微機電系統(tǒng))智能傳感器芯片的生產(chǎn)過程中,需要對微結(jié)構(gòu)進行精確加工和熱處理。真空無氧烘箱能夠提供一個純凈、無氧的環(huán)境,確保微結(jié)構(gòu)在高溫處理過程中不會受到氧化、污染等不良影響,從而提高了芯片的成品率和性能穩(wěn)定性。

3、銀膠固化與鍍金工藝:在半導體封裝過程中,銀膠固化和鍍金工藝是確保封裝質(zhì)量的關鍵環(huán)節(jié)。真空無氧烘箱通過提供無氧環(huán)境,有效防止了銀膠在高溫下的氧化和鍍金層的污染,提高了封裝的可靠性和穩(wěn)定性。

4、電子液晶顯示:用于PI膠、BCB膠固化,鍵合材料預處理,ITO膜退火,PR膠排膠固化等特殊工藝。

5、半導體封裝:銀膠固化和鍍金工藝是確保封裝質(zhì)量的關鍵環(huán)節(jié),真空無氧烘箱通過提供無氧環(huán)境,有效防止了銀膠在高溫下的氧化和鍍金層的污染,提高了封裝的可靠性和穩(wěn)定性。

6、醫(yī)藥行業(yè):雖然傳統(tǒng)真空烘箱在原料藥大生產(chǎn)上已很少應用,但真空無氧烘箱在醫(yī)藥中間體和原料藥的烘烤和提純中仍具有應用價值,有助于提高藥品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

7、其他領域:還廣泛應用于CMOS、IC、PCB板、實驗室及航空航天、汽車制造、化工等領域。


技術參數(shù)

溫度范圍:至少室溫+20℃~+350℃可調(diào)

升溫速率:3-5℃/min

進氣量:協(xié)商

含氧量“協(xié)商

溫度控制器顯示精度:0.1

抽氣:協(xié)商

溫度波動度:±1℃

真空度:協(xié)商

控溫儀表:7寸觸摸屏

降溫方式:水冷

溫度均勻度:≤±2.0%℃ (空載)

氣體:可充氮氣或壓縮空氣

控制回路保護:短路及過載保護

循環(huán)風方式L:水平循環(huán)運風


操作與維護

操作:半導體真空烘箱的操作通常包括準備工作、樣品裝載、設定參數(shù)(如溫度、真空度、氮氣流量等)、啟動烘箱、監(jiān)控過程以及取出樣品等步驟。具體操作流程可能因設備型號和制造商的不同而有所差異。

維護:為確保半導體真空烘箱的長期穩(wěn)定運行和延長使用壽命,需要定期進行維護和保養(yǎng)。這包括清潔烘箱內(nèi)部和外部、檢查加熱元件和溫度傳感器的工作狀態(tài)、校準控制系統(tǒng)以及更換磨損的部件等。



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