磁控濺射鍍膜儀

CY-1100X-SPC16M磁控濺射鍍膜儀的特點

1：設(shè)有真空表、濺射電流表，可實時監(jiān)控設(shè)備工作狀態(tài)。

2：可通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器和微型真空閥來控制真空室壓強、電離電流，以獲得*佳鍍膜效果。

3：真空室石英腔體邊緣的橡膠密封圈采用了特殊設(shè)計，得以保證真空室*使用且不出現(xiàn)崩邊現(xiàn)象。

4：用更加經(jīng)久耐用的陶瓷橡膠密封圈取代了通常用的橡膠密封。

5：采用了大容量濺射真空室和相應(yīng)面積的濺射靶，是濺鍍出的膜層更加均勻純凈。

6：濺射頭采用了特殊的制冷技術(shù)，可以得到高性能、精細顆粒的圖層。   

7：可用水冷濺射頭、水冷載物臺。

技術(shù)參數(shù)