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雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀

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  • 雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀

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  • 型號(hào) CY-HV-2H
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  • 廠商性質(zhì) 其他
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更新時(shí)間:2020-12-31 13:50:08瀏覽次數(shù):308

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹: 雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng),具有雙靶2"目標(biāo)源,例如,一個(gè)直流源用于涂覆金屬薄膜,另一個(gè)射頻源用于涂覆非金屬材料。雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆單層或多層薄膜,適用于各種材料,如合金、鐵電、半導(dǎo)體、陶瓷、電介質(zhì)、光學(xué)、聚四氟乙烯等。

詳細(xì)介紹

詳情介紹:

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點(diǎn):

1、配置兩個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡(jiǎn)便。

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格:

輸入功率

單相220 VAC 50 / 60 Hz, 2000 W (包括真空泵和冷水機(jī)組)

電源

兩個(gè)濺射電源集成在一個(gè)控制箱中。

  • 直流電源:用于涂覆金屬材料的500 W功率。
  • 射頻電源:300 W功率,13.56 MHz頻率,用于涂覆非導(dǎo)電材料。

磁控濺射頭

包括兩個(gè)帶有水冷套和百葉窗的2“磁控濺射頭。

此產(chǎn)品頁(yè)面中還提供了一個(gè)濺射頭型號(hào)(在產(chǎn)品選項(xiàng)中)。

  • 一個(gè)連接到 直流電源以涂覆金屬材料
  • 另一個(gè)連接到用于非導(dǎo)電材料的RF源
  • 靶尺寸要求:2“直徑
  • 厚度范圍:0.1 - 5 mm,適用于金屬和非導(dǎo)電目標(biāo)(包括背板)
  • 包括一個(gè)不銹鋼靶目標(biāo)和一個(gè)研究級(jí)Al2O3靶 用于樣品測(cè)試

定制涂膜機(jī):兩個(gè)不帶射頻的直流頭; 兩個(gè)沒(méi)有DC的RF頭; 可根據(jù)要求提供3個(gè)RF頭。

真空室

  • 真空室:直徑300毫米×300 mm高度,由不銹鋼制成
  • 視口:兩片100毫米直徑玻璃。一個(gè)固定;一個(gè)可拆卸清潔和更換
  • 帶氣動(dòng)電源桿的鉸接式蓋子可輕松更換靶

樣品臺(tái)

  • 樣品架是可旋轉(zhuǎn)且可加熱的臺(tái)架,由帶銅蓋的陶瓷加熱器制成
  • 樣品架尺寸:140 mm直徑對(duì)于4"晶圓max
  • 轉(zhuǎn)速:1 - 20 rpm可調(diào),均勻涂層
  • 通過(guò)數(shù)字溫度控制器,支架溫度可在*高溫度范圍內(nèi)調(diào)節(jié)至高500°C(max2小時(shí)),精度為+/- 1.0°C

氣體流量控制

  • 安裝了兩個(gè)精密質(zhì)量流量控制器(MFC),允許兩種類型的氣體進(jìn)入  
  • 流量: 0 – 200 mL/min可在觸摸屏控制面板上調(diào)節(jié)
  • 安裝進(jìn)氣閥以進(jìn)行真空釋放

真空泵站

  • 包括移動(dòng)泵站,濺射涂膜機(jī)可以放置在工位底部
  • 速度為80L/S的高速渦輪泵  與兩級(jí)機(jī)械泵(220 L / min)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)更大真空水平和更快的抽速。
  • 與腔室連接的標(biāo)準(zhǔn)真空度:<4.0E-5 Torr。(帶腔室烘烤的1.0E-6托)。

水冷裝置

包括一個(gè)數(shù)字溫控循環(huán)冷水機(jī)組 

  • 制冷范圍: 5~35 °C
  • 流速: 16 L/min
  • 泵壓: 14 psi

整體尺寸

蓋子關(guān)閉: 48" × 28" × 32"      

蓋子打開(kāi): 48" × 28" × 37"

凈重

160 kg

售后服務(wù)

貨物發(fā)出后,CYKY提供一年免費(fèi)售后服務(wù),服務(wù)方式限于電話指導(dǎo)、視頻指導(dǎo)、郵件指導(dǎo)、配件郵寄等遠(yuǎn)程。如需要派人現(xiàn)場(chǎng)服務(wù),客戶需要支付服務(wù)人員差旅費(fèi)和出差期間的工資。

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