單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)

磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為1500W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求；儀器標配的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。

單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：

該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等。

單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù)：