小型高真空二合一鍍膜儀

等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。為了提高鍍膜質量，本臺二合一鍍膜儀采用的不銹鋼真空腔體配合精密分子泵的高真空設計，較高的真空度能夠有效的提升鍍膜純凈度和均勻度，有利于得到更好的實驗效果。樣品臺有旋轉和加熱功能，能夠提高薄膜的附著力和成膜的均勻度。本儀器體積小，節(jié)省空間，能夠置于試驗臺上使用，非常適合各大高校及研究機構選用。

小型高真空二合一鍍膜儀適用范圍：

掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導體材料試驗電極的制作等。

小型高真空二合一鍍膜儀技術參數(shù)：

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