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帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

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更新時(shí)間:2020-12-31 20:33:11瀏覽次數(shù):374

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹: 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶......

詳細(xì)介紹

詳情介紹:

項(xiàng)目

明細(xì)

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

3KW

極限真空度

10-6torr

載樣臺(tái)參數(shù)

尺寸

φ140mm

加熱溫度

*高500℃

控溫精度

±1℃

轉(zhuǎn)速

1-20rpm可調(diào)

磁控濺射頭參數(shù)

數(shù)量

2個(gè)2"磁控濺射頭

冷卻方式

水冷,所需流速10L/min

水冷機(jī)規(guī)格

10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm X 300mm H

腔體材料

不銹鋼

觀察窗口

φ100mm

開啟方式

上頂開式,便于更換靶材

氣體流量控制器

2路分別通Ar,N2;

量程均為0-100sccm

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S

膜厚儀

石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源一臺(tái),1000W,適用于制備金屬膜

射頻電源一臺(tái),500W,適用于非金屬鍍膜

操作方式

面板按鈕操作

整機(jī)尺寸

1400mm X 750mm X 1300mm

整機(jī)重量

300kg

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