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詳情介紹：
該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標(biāo)配的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流電源+射頻電源) | ||||
樣品臺 | 尺寸 | φ140mm | 控溫精度 | ±1℃ |
| 加熱溫度 | *高500℃ | 轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm可調(diào) |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2" x3 （1",2"可選） | 水冷機規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機 |
| 冷卻方式 | 水冷 |
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真空腔體 | 腔體尺寸 | Dia.300mm×300mm | 觀察窗口 | φ100mm |
| 腔體材料 | 不銹鋼 | 開啟方式 | 上頂開式 |
質(zhì)量流量計 | 2路；量程100sccm；100sccm（可根據(jù)客戶需要定制多路氣路） | |||
真空系統(tǒng) | 產(chǎn)品型號 | CY-GZK103-A | 抽氣接口 | CF160 |
| 分子泵 | CY-600 | 排氣接口 | KF40 |
| 前極泵 | 旋片泵 | 真空測量 | 復(fù)合真空計 |
| 極限真空 | 1.0E-5Pa | 供電電源 | AC;220V 50/60Hz |
| 抽氣速率 | 分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa | ||
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源x2 射頻電源 x1 | *大輸出功率 | 直流電源500W 射頻電源500W |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機尺寸 | 600mm X 650mm X 1280mm |
| 整機功率 | 4KW | 整機重量 | 300kg |
| 極限真空度 | 1.0E-5Pa |
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