桌面型雙靶磁控鍍膜儀

桌面型雙靶磁控鍍膜儀

樣品臺(tái)

尺寸

φ150mm

加熱

*高500℃

轉(zhuǎn)速

0-20可調(diào)

磁控濺射靶

數(shù)量

2" x2  雙靶共用一擋板

真空腔體

腔體尺寸

φ210mm X 230mm 

觀(guān)察窗口

φ40mm

腔體材料

SS304不銹鋼

開(kāi)啟方式

前開(kāi)門(mén)式

真空系統(tǒng)

機(jī)械泵

進(jìn)口無(wú)油隔膜泵

抽氣接口

KF16

分子泵

進(jìn)口分子泵

抽氣接口

KF40

真空測(cè)量

電阻規(guī)+電離規(guī)

排氣接口

KF16

極限真空

1.0E-3Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

無(wú)油泵 0.49L/s 分子泵：40L/S

電源配置

數(shù)量

直流電源 x1 射頻電源x1

*大輸出功率

直流電源500W 射頻電源500W

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)尺寸

550mm X 550mm X1100mm

整機(jī)功率

2kW