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詳細(xì)介紹
詳情介紹：
技術(shù)規(guī)格：
桌面型單靶磁控鍍膜儀 | ||
樣品臺(tái) | 尺寸 | φ100mm |
加熱 | *高500℃ | |
轉(zhuǎn)速 | 0-20可調(diào) | |
磁控濺射靶 | 數(shù)量 | 2" x1 |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X 215mm |
觀察窗口 | 全向透明 | |
腔體材料 | 高純石英 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 | 旋片泵 |
分子泵 | 渦輪分子泵 | |
真空測(cè)量 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF16 | |
極限真空 | 1.0E-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 機(jī)械泵1.1L/s 分子泵600L/s | |
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源 x1 |
*大輸出功率 | 直流電源150W | |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)功率 | 2kW | |
整機(jī)尺寸 | 550mm X 350mm X400mm | |
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