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詳細(xì)介紹
金剛石懸浮研磨拋光液概述：
每一顆金剛石都經(jīng)精挑細(xì)選，嚴(yán)格的分級(jí)粒度，*的制備工藝使之適用于不同的磨拋載體，滿足不同樣品的制備需求。不僅適用于金相和巖相研磨、拋光，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。我公司生產(chǎn)的金剛石懸浮研磨拋光液，具備高效的磨削率和去除率，與普通拋光液比較，在磨拋質(zhì)量等同情況下，用量節(jié)省30%，時(shí)間節(jié)省60%。
金剛石懸浮研磨拋光液詳細(xì)介紹：
名稱 | 說 明 | 粒度 | 包裝（瓶） |
金剛石懸浮研磨拋光液 | 水基，標(biāo)準(zhǔn)濃度、單晶金剛石（HFMW） 金相和巖相研磨、拋光。 各種黑色和有色金屬研磨拋光。 陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品高光潔度表面的研磨及拋光。 | 40μm 、28μm 、20μm 14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3.5μm、2.5μm、1.5μm 、1.0μm、0.5μm、0.25μm | 500ml |
金剛石懸浮研磨拋光液 | 水基，標(biāo)準(zhǔn)濃度、單晶金剛石（HFMW） 金相和巖相研磨、拋光。 各種黑色和有色金屬研磨拋光。 陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品高光潔度表面的研磨及拋光。 | 0.05μm | 500ml |
金剛石懸浮研磨拋光液 | 水基，高濃度、單晶金剛石（HFSW） 保持高磨削力的同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷，降低制樣時(shí)間，用于硬質(zhì)合金、晶體、陶瓷等各種硬質(zhì)材料的快速研磨與拋光。 | 14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3μm、1.0μm、0.5μm、0.25μm | 500ml |
金剛石懸浮研磨拋光液 | 油基，無水，高濃度、單晶金剛石（HFSO） 用于黑色金屬、有色金屬、水敏感材料，軟質(zhì)材料樣品的研磨與拋光。 | 14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3μm、1.0μm、0.5μm、0.25μm | 500ml |
金剛石懸浮研磨拋光液 | 水基，標(biāo)準(zhǔn)濃度、多晶金剛石（BEMW） 金相和巖相研磨、拋光。 各種黑色和有色金屬研磨拋光。 陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品高光潔度表面的研磨及拋光。 | 14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3μm1.0μm、0.5μm、0.25μm | 500ml |
金剛石懸浮研磨拋光液 | 水基，高濃度、多晶金剛石（BESW） 具有高磨削力、降低制樣時(shí)間， 金相和巖相研磨、拋光。 各種黑色和有色金屬研磨拋光。 用于各種超硬合金、光學(xué)晶體、陶瓷等各種硬質(zhì)材料的快速研磨與拋光。 | 14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3μm1.0μm、0.5μm、0.25μm | 500ml |
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