P-200S Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)

PICOSUN P-200S Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)

技術(shù)參數(shù)

襯底尺寸和類型：

。50 – 200 mm /單片
。156 mm x 156 mm 太陽能硅片
。150 mm x 150 mm 顯示面板

工藝溫度： 50 - 500 °C , 可選更高溫度

基片傳送選件 ：

。氣動(dòng)升降（手動(dòng)裝載）
。半自動(dòng)裝載，用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)
。25片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)

標(biāo)準(zhǔn)： SEMI S2 認(rèn)證（認(rèn)證中）

前驅(qū)體：

。 液態(tài), 固態(tài), 氣態(tài), 臭氧源, 等離子體（最多4路氣體）：
。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)
。6根獨(dú)立源管線，最多加載12個(gè)前驅(qū)體源（加上Plasma管路，共7根獨(dú)立源管線）

重量 ：790 kg

尺寸 ：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

可選件 ：集群工具, PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器, 集成橢偏儀, QCM, RGA, N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計(jì)，與工廠軟件連接服務(wù)。

驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) ：。標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝，
。其他工藝可具體協(xié)商：其他工藝、應(yīng)用具體驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)如：
- 不均勻性
- 顆粒物含量
- 重金屬污染
- 電學(xué)性能

一個(gè)PICOPLATFORM™ 200真空集群系統(tǒng)由兩臺(tái)PICOSUN™ P-200S ALD設(shè)備組成，帶等離子體源PICOPLASMA™。