詳細介紹
Plasma Stripper (Asher) 等離子去膠機(灰化)
應用:從蝕刻晶圓片上移除光刻膠
流程配置: RIE/ICP
工作原理
。使用等離子體源,生成單原子反應種。
。氧是見的反應物質。反應性物質與光阻結合形成灰,
。用真空泵將其除去。
。ICP結構避免了高能離子轟擊和電容耦合,
。提供低襯底損傷。
可用氣體: O2, N2O
主要性能:
。開放式設計,可快速加載和卸載晶圓。
?;胖迷谑⑸希员苊鉃R射/再沉積電極材料
。通過頂部電極上的“蓮蓬頭”進氣口將氣體注入工藝室
。電感耦合等離子體(ICP)和電極的獨立射頻發(fā)生器提供對離子能量和離子密度的獨立控制
。高電導泵浦端口提供高的氣體吞吐量,以的腐蝕速率
。使用等離子體源,生成單原子反應種。氧是見的反應物質。