Vapour Station 4 電子束蒸發(fā)鍍膜機

英國Oxford Vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機Vapour Station 4

微納器件樣品制備系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介

該電子束蒸發(fā)鍍膜儀是一款微納器件樣品制備系統(tǒng)，為有機無機多源有 氣相分子沉積系統(tǒng)，高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機、金屬電阻蒸發(fā)及手 套箱保護(hù)條件下器件后期制作，主要用于有機半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能， 研究實驗、有機半導(dǎo)體器件的原理研究實驗也可用于普通金屬電極蒸發(fā)鍍膜研究；

真空室采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼，氬弧焊接、采用*鈍化處理工藝。基片臺尺 寸：3 英寸，配備一套 TELEMARK 的單袋電子束靶槍一套；鍍膜室用一臺 高精度石英晶振膜厚監(jiān)測儀進(jìn)行薄膜厚度監(jiān)測，配備有原裝石英晶振探頭； 鍍膜生長室放置2個熱阻蒸發(fā)舟，是一款真空高性價比的電子束蒸發(fā)鍍膜機。

技術(shù)參數(shù)

尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H)

真空腔體:

真空腔體要求：樣品尺寸為 3 英寸，樣品臺直徑為 75mm； 薄膜均勻性≤±1%；

極限壓力：真空腔室薄膜真空度＜3×10-7 mbar；

真空計：真空測量系統(tǒng)，寬范圍的真空規(guī)，真空度小于 3×10-7mbar；

樣品夾：真空腔體里配有樣品夾，能夠固定住樣品；

擋板：真空腔體里配有沉積擋板，工作時能區(qū)分開不同樣品；

蒸發(fā)樣品池：配置單袋容量 1.5cc 的電子束靶槍，電源功率為3KW ；

蒸發(fā)舟：2個熱蒸發(fā)鎢舟，用于沉積一些熱蒸發(fā)材料；

薄膜監(jiān)測儀：

.電腦控制的薄膜監(jiān)測儀，能實時監(jiān)測薄膜的厚度情況；

.測量頻率范圍至少包含6.0 to 5.0 MHz這個范圍；

.頻率分辨率應(yīng)≤±0.03 Hz （at 6 MHz）； 測量間隔應(yīng)≤0.10 s；厚度顯示分辨率≤1 Å；

真空系統(tǒng)：

.真空系統(tǒng)組成：應(yīng)至少包含一臺干式渦旋泵和一臺渦輪分子 泵，美國安捷倫干式渦旋泵作為前級泵；

.愛德華渦輪分子泵：

-N2抽速：240 L/s；

-極限真空（ISO）：<6×10-8mbar；

-強制空氣冷卻，35°C,環(huán)境溫度：30sccm；

-標(biāo)稱旋轉(zhuǎn)速度：60000rpm；

-待機旋轉(zhuǎn)速度范圍：33000-60000rpm；

-可編程功率限制范圍：50-200W

-強制空氣冷卻的環(huán)境空氣溫度：5-35°C；

-噪音級別：<45dB(A)

冷卻方式包含有風(fēng)冷和水冷兩種方式可供提前選擇；