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詳細(xì)介紹
日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000
特點(diǎn)：
。采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件
?？商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)
。記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件
規(guī)格：
| 項(xiàng)目 | 說明 | |
|---|---|---|
| 放電： | 類型： | 磁控二極管放電型(電場垂直于磁場) |
| 電極組成： | 反向平行盤(嵌入磁鐵) | |
| 電壓： | 0.4 kV DC(直流可變) | |
| 電流： | 40 mA DC | |
| 噴鍍速率 *1()： [條件]： 壓力：7 Pa 放電電流：40 mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離：20 mm | Pt 靶(選配件)： | 15 nm/min |
| Pt-Pd 靶(選配件)： | 20 nm/min | |
| Au 靶(選配件)： | 35 nm/min | |
| Au-Pd 靶(選配件)： | 25 nm/min | |
| 樣品尺寸： | 直徑： | φ60 mm |
| 高度： | 20 mm | |
| 機(jī)械泵： | 135/162 l/min (50/60Hz) | |
| 靶材*2： | Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) | |
| 電源要求： | 單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m) | |
| 尺寸： | 寬度： | 450 mm |
| 長度： | 391 mm | |
| 高度： | 390 mm | |
| 重量： | 主機(jī)：約 25 kg 機(jī)械泵：約 28 kg | |
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