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混懸液研磨分散機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱上海依肯機械設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CMD2000
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2018/2/7 6:52:20
  • 訪問次數(shù)4689
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IKN集團建于1910年,它位于德國西南部,靠近法國與瑞士邊境。一直在設(shè)計研制高品質(zhì)的實驗室儀器及工業(yè)混合分散設(shè)備等方面作出不懈的努力。IKN產(chǎn)品已遍布世界100多個國家與地區(qū)。近百年的制造歷史,豐富的專業(yè)經(jīng)驗,創(chuàng)新的工作態(tài)度,嚴謹?shù)牡聡L格,已經(jīng)使IKN成為高品質(zhì)設(shè)備的代名詞,IKN集團已成為范圍內(nèi)


上海依肯機械設(shè)備有限公司是一家中德合作經(jīng)營企業(yè),依肯通過引進德國IKN技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系,并秉承發(fā)揚了德國的營銷理念,不斷開拓進取,以其專業(yè)制造的*性、經(jīng)營思想的純潔性、工作作風的嚴謹性,發(fā)展成為中國流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的者。 公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領(lǐng)域的幾大系列:一 高剪切分散乳化機,二 均質(zhì)設(shè)備,三 粉液混合設(shè)備,四 膠體磨,五 攪拌機,六干燥機等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細度可達微納米級別。已廣泛應(yīng)用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細化工等領(lǐng)域,并成功為國家重點工程配套,部分產(chǎn)品返銷國外,取得了顯著的經(jīng)濟效益和社會效益。

追求高品質(zhì)IKN的宗旨。成功源自創(chuàng)新亦是公司全體員工一直努力追隨的目標。高品質(zhì)與創(chuàng)新是IKN立于世界術(shù)之巔的保證。


乳化機,膠體磨,粉液混合機,均質(zhì)機,攪拌機,膠體磨,干燥機,分散機
混懸液研磨分散機是是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
混懸液研磨分散機 產(chǎn)品信息

混懸液研磨分散機是是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

混懸液如

磺胺嘧啶混懸液      復(fù)方磺胺甲噁唑口服混懸液   磺胺二甲嘧啶混懸  液硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液

 棕櫚氯霉素混懸液   布洛芬口服混懸液   復(fù)方磺胺甲噁唑口服?... 磺胺二甲嘧啶混懸液   硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液

布洛芬混懸液   硫糖鋁混懸液   

棕櫚氯霉素混懸液   鋁鎂混懸液

頭孢克洛混懸液    蒙脫石混懸液

鋁鎂加混懸液   右美沙芬緩釋混懸液

苯酰甲硝唑混懸液   依托紅霉素混懸液

硫酸鋇混懸液   布洛偽麻混懸液    對乙酰氨基酚混懸液

混懸液的要求混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題?;鞈乙褐兴幬镂⒘7稚⒍却?/span>

,微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面,是混懸微粒具有較高的表面自由能,混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。

若要制得沉降緩慢的混懸液,應(yīng)減少顆粒的大小,增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。

影響混懸液大小的粉碎效果 


影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點


2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4  物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)


線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素: 

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在CM2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出CMSD2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。

混懸液研磨分散機的型號

研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

,


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