高純水設(shè)備+EDI

EDI高純水設(shè)備工作原理：

　　高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程（EDI）之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且，膜處理過程在機械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長快的業(yè)務(wù)之一。EDI帶有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

　　EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃）。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm（25℃），但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm（25℃）的純水。

　?。牛模裳b置的特點ＥＤＩ裝置不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運行,進而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。

EDI高純水設(shè)備模塊結(jié)構(gòu)特點：

　　1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料

　　2、EDI膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜

　　3、采用進口EDI均粒樹脂和國產(chǎn)EDI均粒樹脂

　　4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)

　　5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。

　　6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件

　　7、膜堆出廠高試壓7bar不漏水

　　8、膜堆電阻低、功耗小

　　9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實

　　10、大膜堆處理水量3T/H，小模堆處理水量75L/H

　　11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理，不易堵塞，水流分布均勻、*。

EDI高純水設(shè)備進水指標(biāo)要求：

　　◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

　　◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：＜25ppm。

　　◎電導(dǎo)率：＜40μS/cm

　　◎ＰH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時，EDI較好工作的pH范圍為8.0～9.0。

　　◎溫度： 5～35℃。

　　◎進水壓力：＜4bar（60psi）。

　　◎硬度：（以CaCO3計）：＜1.0ppm。

　　◎有機物（ TOC）：＜0.5ppm。

　　◎氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。

　　◎變價金屬： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。

　　◎H2S：＜0.01ppm。

　　◎二氧化硅：＜0.5ppm。

　　◎色度：＜5APHA。

　　◎二氧化碳的總量：＜10ppm

　　◎ SDI 15min：＜1.0。