離子除臭設(shè)備是由 離子發(fā)生器、離子發(fā)生管、控制系統(tǒng)組成、用來除臭、清除異味的空氣凈化設(shè)備,普遍應用于新風系統(tǒng)凈化、*空調(diào)室內(nèi)凈化、工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場所。常見的有等離子除臭設(shè)備、高能離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備、低溫等離子除臭設(shè)備、靜電除塵設(shè)備等等。離子除臭設(shè)備的主要原理是在高能電子的瞬時高能量作用下,產(chǎn)生大量正負離子,打開某些有害氣體分子的化學鍵,使其直接分解成單質(zhì)原子、基團或無害分子。污水廠除臭設(shè)備型號工藝
光解催化氧化技術(shù)原理
利用220V低電壓高強度的寬波幅光子管發(fā)出特定波段能量均衡的雙波段光(185nm、254nm)照射廢氣,裂解廢氣中如:氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯、VOC類、苯、甲苯、二甲苯等分子結(jié)構(gòu),使有機或無機高分子污染物分子鏈,在高能紫外線光束照射下裂解,氧化成小分子化合物。
利用UV高能紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,因游離氧所攜正負電子不平衡,所以需與氧氣分子結(jié)合,進而產(chǎn)生臭氧。
其反應式為:
UV+O2 → O-+O+(游離氧)
O-或O++O2 → O3(臭氧)
運用UV高能紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應,使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、CO2和H2O,再通過風管排出。污水廠除臭設(shè)備型號工藝
UV光解催化氧化工藝流程
廢氣通過風機輸送至裝置內(nèi),在裝置產(chǎn)生的強氧化性物質(zhì)(臭氧)和紫外線及催化劑的作用下,被迅速裂解、氧化、降解成低分子化合物、水和二氧化碳,降解產(chǎn)生的小分子及未反應的臭氧在堿吸收化學塔中被洗滌除去,實現(xiàn)達標排放。