nanoArch 微納3D打印機 P130/S130
nanoArch P130是可以實現高精度微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認為是目前前景的微納加工技術之一。
科研級3D打印系統
nanoArch P130是科研級3D打印系統，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
NanoArch P130/S130系統性能：注：樣品高度典型2mm,10mm
nano Arch P130產品規(guī)格：
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：光敏樹脂
光學精度：2μm
XY打印精度：2-10μm
打印層厚：5-20μm
打印樣品尺寸：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)
打印件格式：STL
系統外形尺寸：1720(L)x650(W)x1820(H)mm³
重量：450kg
電氣要求：200-240V,AC,50/60HZ,3KW
nano Arch S130產品規(guī)格：
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：光敏樹脂
光學精度：2μm
XY打印精度：2-10μm
打印層厚：5-20μm
打印樣品尺寸：模式1：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)
模式2：38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H)
模式3：50mm(L)x50mm(W)x10mm(H)
打印件格式：STL
系統外形尺寸：1720(L)x650(W)x1820(H)mm³
重量：450kg
電氣要求：200-240V,AC,50/60HZ,3KW
打印材料：
。通用型：丙烯酸類光敏樹脂，如HDDA，PEGDA等
。個生化：高強度硬性樹脂，納米顆粒摻雜樹脂，生物科研樹脂等。
系統特性：
。高精度：XY打印精度高達2μm；
。低層厚：5μm-20μm的打印層厚；
。微尺度打印能力；
。光學監(jiān)控系統，自動對焦功能；
。配置氣浮平臺，提高打印質量；
。優(yōu)良的光源穩(wěn)定性；
。配備完善的樣品后處理組件，包括抽真空及紫外后固化。
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