Hysitron TI 980 TriboIndenter
加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段
布魯克的海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter同時具有的性能、靈活性、可信度、實(shí)用性和速度。基于海思創(chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新，它為納米力學(xué)表征帶來了高水平的性能、功能和易用性。TI 980達(dá)到了一臺優(yōu)異納米力學(xué)測試儀器所需的所有要求，實(shí)現(xiàn)了控制上突出的*性和高效性，試驗(yàn)上的靈活度與可實(shí)現(xiàn)性，測量穩(wěn)定性，以及系統(tǒng)設(shè)計(jì)的模塊化。
*的Performech® II控制模塊和電子設(shè)計(jì)
。 性能的高速閉環(huán)控制
。 業(yè)界的噪音控制
。集成的帶輸入/輸出信號的多參數(shù)控制
。 五百倍于前代產(chǎn)品的力學(xué)測試速度
多維度測量耦合
。充分優(yōu)化各個傳感器的特質(zhì)適用不同測量需要，通過多維傳感器的選擇實(shí)現(xiàn)不同測量間的無縫耦合
。 多種有效的測試模塊配置，包括納米/微米壓痕、納米劃痕、納米摩擦磨損、高分辨原位掃描探針顯微鏡成像、動態(tài)納米壓痕和高速力學(xué)性能成像等
豐富的系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)分析軟件
。TriboScan(TM) 10提供了革命性的控制功能，包括XPM超快納米壓痕，SPM+原位掃描探針顯微鏡成像，動態(tài)表面搜索，全自動系統(tǒng)校準(zhǔn)和創(chuàng)新的測試程序
。Tribo iQ (TM)提供了強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理、分析和畫圖功能，并具有可編程數(shù)據(jù)分析模塊和自動生成的定制測試報(bào)告功能。
極大的靈活性和具有前瞻性的表征潛質(zhì)
。多級別的防護(hù)罩提供了*環(huán)境隔絕能力，并具有用于將來的升級可擴(kuò)展接口
。樣品臺提供了機(jī)械、磁性和真空固定方式，適用于各種樣品
保持處于材料研究和開發(fā)的
海思創(chuàng)從1992年起就在范圍內(nèi)處于納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征的位置。通過與研究人員和工程師的持續(xù)合作，布魯克理解您的*需求，通過創(chuàng)新的技術(shù)幫助您解決當(dāng)下和將來面臨的材料挑戰(zhàn)。海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter是這些努力的集大成者。它提供了的性能，能滿足您持續(xù)更新的材料表征需求。
簡潔、高速的自動控制
系統(tǒng)自動校正使得每次測試都無懈可擊
。 針尖面積函數(shù)自動校正
。 傳感器自動校正
。壓針和光學(xué)系統(tǒng)校正
自動測試程序
。快速、多樣品自動測試功能實(shí)現(xiàn)高通量表征
。 智能化自動程序確保用戶選擇正確的針尖
。 高分辨多尺度成像結(jié)合全尺寸樣品的光學(xué)搜索，
極大簡化測試流程
的噪音水平，實(shí)現(xiàn)真正納米尺度表征
。從微米到幾個納米的多尺度測量
。 納牛級別的力噪音水平和小于90%原子直徑的位移測量能力，實(shí)現(xiàn)幾乎任何材料的定量表征
。系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)超過6個數(shù)量級的力測量和10個數(shù)量級的位移測量
。力和位移噪音水平保證在客戶現(xiàn)場安裝時實(shí)現(xiàn)
的反饋控制速率
精確控制測試過程
。實(shí)現(xiàn)精度、可信度和重復(fù)性的真正定量納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征
。 特殊的力和位移反饋控制方法用于海思創(chuàng)的傳感器-專門針對海思創(chuàng)傳感器物理特性開發(fā)的力與位移反饋控制算法
。每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整反饋控制，使得系統(tǒng)能測量快速瞬態(tài)過程，并對其作出反饋，真正實(shí)現(xiàn)用戶的測試意圖-每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整的感知-分析-控制的循環(huán)，使得系統(tǒng)能對瞬態(tài)過程進(jìn)行測量與反饋，以此重現(xiàn)用戶定義的測試方式
在納米力學(xué)測試上一步
nanoDMA III：動態(tài)納米壓痕
布魯克的nanoDMA III是強(qiáng)大的動態(tài)納米壓痕技術(shù)。它提供了彈/塑性和粘彈性隨著壓入深度、頻率和時間的變化關(guān)系。
。 全面表征各種材料的普適性方法，從較軟的聚合物到硬質(zhì)鍍層都能適用
。 集成直流和交流調(diào)制使得從初始接觸點(diǎn)開始就能實(shí)現(xiàn)納米尺度動態(tài)性能的可靠、定量表征
。 原位參考頻率法校正溫漂使得長時間測試的精度大大提高
XPM：快速力學(xué)性能成像
不論是測量分辨率和精度，還是測量速度，XPM都是納米力學(xué)測試的業(yè)界新。有了XPM，原來可能需要一整年才能獲得的數(shù)據(jù)，現(xiàn)在只需要一個下午就能獲得。這些的性能是通過以下三個業(yè)界的技術(shù)實(shí)現(xiàn)的。1）高帶寬靜電激勵傳感器；2）快速控制和數(shù)據(jù)采集電子系統(tǒng)；3）自上而下的原位掃描探針顯微鏡成像。這些技術(shù)聯(lián)用能實(shí)現(xiàn)每秒六次納米壓痕測試，從而獲得全面的定量納米力學(xué)性能圖譜以及性能分布的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。
更少時間測量更多參數(shù)
。 超高速定量力學(xué)性能測量（每秒6次測量）
。 快速、高分辨空間硬度和模量分布統(tǒng)計(jì)
。 一分鐘內(nèi)可靠完成針尖函數(shù)自動校正
。 比傳統(tǒng)納米壓痕測試快500倍的數(shù)據(jù)采集速率
。 xSol 環(huán)境控制腔及載臺，可實(shí)現(xiàn)環(huán)境條件下高通量測量
SPM+實(shí)現(xiàn)納米力學(xué)測試前后的準(zhǔn)確原位成像
布魯克的掃描納米壓痕技術(shù)使用同一根探針實(shí)現(xiàn)樣品表面形貌成像和納米壓痕測試。這種方法實(shí)現(xiàn)了的定位精度，并且可以在納米壓痕測試后立即對樣品塑性形變進(jìn)行成像，加快測試速度。
。 高定位精度（+/-10nm）
。 可以從64x64到4096x4096范圍內(nèi)設(shè)定掃描分辨率
。 可以對各種高長寬比的特征形貌進(jìn)行不同X-Y分辨率成像
。 業(yè)界的納米力學(xué)性能成像分辨率和調(diào)色板
。 可以和摩擦力成像，nanoDMA III，nanoECR和xSol環(huán)境控制腔等聯(lián)用
強(qiáng)大的系統(tǒng)控制和分析
TriboScan 10：強(qiáng)大的測試靈活性提供了無限的測試可能性
。 將布魯克納米壓痕全套測試技術(shù)集成到一個直觀的軟件內(nèi)
。 基于標(biāo)簽頁架構(gòu)的軟件設(shè)計(jì)使得用戶可以方便的使用軟件功能
。靈活的測試過程分段定義方法提供了適用于所有測試模式的優(yōu)異控制
TriboIQ: 可編程數(shù)據(jù)分析程序
。易用的操作界面，從簡單到復(fù)雜的可定制數(shù)據(jù)分析包
。 直觀的數(shù)據(jù)組織和分析流程，簡單點(diǎn)擊即可生成數(shù)據(jù)報(bào)告
。 直觀可自定義的數(shù)據(jù)處理和分析模塊
。 開放式架構(gòu)使得多用戶合作更加容易
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