RUK系列氣浮光學(xué)平臺是一款超高性能隔振光學(xué)平臺。隔振器采用進口精密超薄復(fù)合材料氣囊、帶附加擴散口的多小孔準(zhǔn)層流阻尼技術(shù),隔振性能優(yōu)良,系統(tǒng)更穩(wěn)定。RUK系列光學(xué)平臺具有自動水平,自動充氣,噪聲低等特點。關(guān)鍵氣動執(zhí)行元件均采用德國FEST0進口產(chǎn)品。
應(yīng)用領(lǐng)域:
精密光學(xué)實驗、顯微成像、醫(yī)療生物
光路測試、光學(xué)測量、激光干涉、精密檢測
對振動具有較高的要求設(shè)備
技術(shù)指標(biāo):
光學(xué)平臺高度 | 800mm |
光學(xué)臺面平面度 | ≤0.05mm/m2 |
光學(xué)臺面粗糙度 | ≤0.8μm,臺面亞光處理 |
光學(xué)平臺振幅 | 1.2um |
固有頻率 | x方向:1Hz~1.7Hz y方向:1Hz~1.7Hz |
負(fù)荷承載 | 130kg/㎡ |
隔振方式 | 空氣彈簧 隔振橡膠 |
水平調(diào)節(jié)方式 | 自動調(diào)平 氣動元件執(zhí)行 |
空氣源 | *空氣壓縮機 <45dB 可外接 |
調(diào)節(jié)高度 | ±10mm
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光學(xué)平臺臺面分類:
焊接蜂窩臺面(H)、真蜂窩臺面(W)、大理石臺面(D)、無磁臺面(C)
產(chǎn)品型號: