一、技術(shù)要求
產(chǎn)水壓力:0.4MPa
產(chǎn)水水質(zhì):按ASTM D5127-2013 E-1.1級(jí)的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
序號(hào) | 名 稱(chēng) | 單 位 | 數(shù)據(jù) | 備注 |
1 | 電阻率(25℃) | MΩ.CM | 18.2 | |
2 | TOC | μg/L | 2 | |
3 | 溶解氧 | μg/L | 10 | |
4 | 蒸發(fā)殘?jiān)?/span> | μg/L | 0.5 | |
5 | 在線(xiàn)顆粒/升(微米) | |||
6 | 0.05~0.1 | 個(gè) | 1000 | 在線(xiàn)監(jiān)測(cè) |
7 | 0.1~0.2 | 個(gè) | 350 | 在線(xiàn)監(jiān)測(cè) |
8 | 0.2~0.5 | 個(gè) | <100 | 在線(xiàn)監(jiān)測(cè) |
9 | 0.5~1.0 | 個(gè) | <50 | 在線(xiàn)監(jiān)測(cè) |
10 | 1.0 | 個(gè) | <20 | 在線(xiàn)監(jiān)測(cè) |
11 | SEM顆粒檢測(cè)/升(微米) | |||
12 | 0.1~0.2 | 個(gè) | 700 |
13 | 0.2~0.5 | 個(gè) | 400 | |
14 | 0.5~1.0 | 個(gè) | 50 | |
15 | 10 | 個(gè) | <30 | |
16 | 細(xì)菌/100mL | |||
17 | 100mL取樣 | 個(gè) | 3 | |
18 | 總硅 | μg/L | 3 | |
19 | 溶解硅 | μg/L | 1 |
運(yùn)行要求:年連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)8000小時(shí)
管閥材質(zhì):采用進(jìn)口PVDF超純型管道閥門(mén),熱熔對(duì)焊。
二、產(chǎn)品*性分析
設(shè)備回收率:EDI裝置回收率≥90%,EDI濃水全部回流至廠區(qū)除鹽水系統(tǒng)原水箱。
設(shè)備控制:采用PLC+上位機(jī)全自動(dòng)運(yùn)行方式,同時(shí)可手動(dòng)運(yùn)行,系統(tǒng)帶自檢功能,聲光報(bào)警。系統(tǒng)運(yùn)行參數(shù)可存儲(chǔ),可打印。正常運(yùn)行為自動(dòng),檢修為手動(dòng),可實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守。系統(tǒng)運(yùn)行實(shí)況可于在線(xiàn)流程模擬屏上實(shí)時(shí)顯示,如水箱液位的具體高度,增壓泵出口壓力,產(chǎn)水流量,EDI產(chǎn)水電阻率,產(chǎn)水流量,拋光混床產(chǎn)水電阻率、產(chǎn)水流量以及終端產(chǎn)水電阻率、在線(xiàn)監(jiān)測(cè)微粒數(shù)等參數(shù)。
供水方式:超純水系統(tǒng)供水采用不間斷循環(huán)供水方式,回路設(shè)計(jì)背壓閥保持循環(huán)量。