關(guān)鍵詞：煤巖分析儀、煤巖反射率分析、煤巖分析系統(tǒng)、煤巖分析、煤炭分析儀、徠卡煤巖分析儀、蔡司煤巖分析儀、煤質(zhì)分析儀
德國(guó)徠的煤巖分析儀器，技術(shù)服務(wù)熱線：
劉經(jīng)理 霍經(jīng)理
1.整個(gè)系統(tǒng)的技術(shù)條件及功能
煤巖光片制備
煤巖光片的顯微觀察與照相
焦炭光片的顯微觀察與照相
煤巖光片的自動(dòng)掃描照相功能，照相過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)移動(dòng)樣品和自動(dòng)調(diào)焦，同時(shí)可人工干預(yù)微調(diào)焦距，確保圖像清晰率。速度10-20min/樣，可同時(shí)提供鏡質(zhì)組反射率和煤巖組成活惰比兩項(xiàng)結(jié)果。
按照現(xiàn)行GB/T 8899-1998《煤的顯微組分組和礦物測(cè)定方法》標(biāo)準(zhǔn)方法進(jìn)行的煤巖顯微組分的定量統(tǒng)計(jì)測(cè)試。
基于圖像分析的煤巖顯微組分定量統(tǒng)計(jì)方法，具有測(cè)試過(guò)程追溯功能，便于審核。
鏡質(zhì)體反射率的光度計(jì)測(cè)試方法，符合GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測(cè)定方法》的要求。人工確認(rèn)測(cè)試對(duì)象并自動(dòng)測(cè)試鏡質(zhì)組反射率，測(cè)試結(jié)果可用于仲裁。
基于圖像分析自動(dòng)識(shí)別鏡質(zhì)組并測(cè)試反射率，無(wú)需人工干預(yù)，自動(dòng)形成反射率測(cè)試報(bào)告。具有測(cè)試過(guò)程追溯功能。
2.顯微鏡：
(1)符合MT/T 1053-2008《測(cè)定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計(jì)技術(shù)條件》要求。
(2)光學(xué)系統(tǒng)：偏光專業(yè)反射光路，具有明場(chǎng)（自然光），偏光功能。由明場(chǎng)反光鏡、起偏器和180度旋轉(zhuǎn)檢偏器實(shí)現(xiàn)。配有日光濾片?？蓪?shí)現(xiàn)鏡質(zhì)體隨機(jī)反射率、反射率測(cè)量和焦炭的觀測(cè)。
*(3)物鏡：配備10X干物鏡及50X油浸物鏡（物鏡上標(biāo)有POL XLR，XLR：專門致力于煤巖反射率分析，其他品牌均無(wú)針對(duì)性物鏡），要求高精度新標(biāo)準(zhǔn)HCS物鏡，使用高折射率低色散材料。光線透過(guò)率高，能夠降低透鏡界面漫反射，同時(shí)具有防霉功能
*(4)目鏡：配三目鏡筒，一筒用于檢測(cè)。雙目用于觀察，目鏡10x/22，帶視度補(bǔ)償功能，配置預(yù)裝10/100測(cè)微尺。雙目鏡頭可調(diào)眼距，能保證目鏡齊焦。
(5)光源：采用特制照明系統(tǒng)并使用長(zhǎng)壽命高亮度鹵素?zé)?2V/100W及反光碗的柯勒照明方式，帶調(diào)光裝置和顯示。色還原好，提高分辨率，光效高而均勻，有效使用壽命在2000小時(shí)。
(6)濾色片及測(cè)量附件
安裝濾色片系統(tǒng)，配置日光矯正、隔熱濾片、目鏡測(cè)微尺10/100、測(cè)微臺(tái)尺。
*(7）載物臺(tái)360°旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)精度±1°
3.自動(dòng)移動(dòng)載物臺(tái)要求：
*(1)XYZ三軸電動(dòng)載物臺(tái)通過(guò)軟件控制實(shí)現(xiàn)XY自動(dòng)移動(dòng)和Z軸自動(dòng)調(diào)焦。
*(2)通過(guò)軟件控制和顯微攝像頭形成聯(lián)動(dòng)，自動(dòng)移動(dòng)樣品的同時(shí)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)采集圖像，并可通過(guò)人工干預(yù)焦距調(diào)節(jié)確保圖像清晰率。
*(3)自動(dòng)移動(dòng)和采集圖像的過(guò)程能夠記錄每幅圖像的坐標(biāo)，圖像采集完成后能夠?qū)崿F(xiàn)圖像回溯功能，重新定位已采集的圖像。
*(4)XY軸最小步進(jìn)精度0.05um，Z軸精度0.1um。XY軸復(fù)位重復(fù)精度<1um。
4.顯微數(shù)碼攝像頭技術(shù)條件
(1)通過(guò)軟件控制和自動(dòng)載物臺(tái)形成聯(lián)動(dòng)，自動(dòng)移動(dòng)樣品的同時(shí)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)采集圖像。
*(2)顯微高精密檢測(cè)專用攝像頭：檢測(cè)精度要求達(dá)到65536級(jí)（16bit）；同時(shí)可用于輸出彩色圖像，達(dá)到256×256×256級(jí)色階（24bit）。
*(3) 攝像頭應(yīng)具有足夠的穩(wěn)定工作時(shí)間，其線性范圍應(yīng)覆蓋褐煤-無(wú)煙煤的鏡質(zhì)組反射率范圍。
*(4)芯片為CCD，尺寸為 2/3 Inch CCD(Color)。
*(5) 光學(xué)接口：C-mount（Recommended: 1× ）。
5.圖像自動(dòng)采集系統(tǒng)技術(shù)條件
(1)聯(lián)動(dòng)控制載物臺(tái)自動(dòng)移動(dòng)和顯微攝像頭自動(dòng)采集圖像。
(2)支持多種樣品掃描方式、支持自動(dòng)聚焦方式、自動(dòng)保存原始圖像數(shù)據(jù)。
(3)掃描區(qū)域大小、數(shù)量可選；聚焦模式分為自動(dòng)聚焦/手動(dòng)聚焦,支持暫停/等待拍照；掃描間距支持圖像之間重疊、緊鄰、間隔掃描圖像；掃描回溯支持重新定位并重新掃描。
(4)圖像追溯處理：要求可根據(jù)圖像特征，在人工選取煤巖組分時(shí)具有自動(dòng)識(shí)取成片特征相近區(qū)域功能，以減少點(diǎn)擊量；并具有可將已選組分標(biāo)注合成在單張圖像上以及合成保存功能；當(dāng)修正完畢后，可自動(dòng)統(tǒng)計(jì)全部測(cè)區(qū)的煤巖組分含量。
6.煤巖自動(dòng)測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)條件
*(1)測(cè)試過(guò)程可追溯：基于圖像分析法測(cè)試煤的顯微組分含量和鏡質(zhì)組反射率。在計(jì)算機(jī)中保留全部圖像和測(cè)試過(guò)程、測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)，可將測(cè)試結(jié)果標(biāo)注于相應(yīng)圖像之上，可反復(fù)調(diào)閱已測(cè)試樣品的測(cè)試過(guò)程和測(cè)試結(jié)果，便于審核。
*(2)反射率測(cè)試具有半自動(dòng)人工識(shí)別鏡質(zhì)組和全自動(dòng)識(shí)別鏡質(zhì)組并測(cè)試反射率兩種功能模式。半自動(dòng)人工識(shí)別鏡質(zhì)組模式嚴(yán)格按照現(xiàn)行GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測(cè)定方法》進(jìn)行測(cè)試。全自動(dòng)識(shí)別鏡質(zhì)組模式依預(yù)測(cè)模型自動(dòng)判斷鏡質(zhì)體并測(cè)試反射率模式無(wú)需人工干預(yù)，自動(dòng)形成反射率測(cè)試報(bào)告。
*(3)顯微組分含量測(cè)試可按照現(xiàn)行GB/T 8899-2013《煤的顯微組分組和礦物測(cè)定方法》進(jìn)行半自動(dòng)（人工）測(cè)試，也可由計(jì)算機(jī)自動(dòng)掃描分析得出煤巖組成（活惰比）數(shù)據(jù)。自動(dòng)測(cè)試可將測(cè)試結(jié)果標(biāo)注于相應(yīng)圖像之上，便于審核。
*(4)自動(dòng)測(cè)試焦炭孔隙參數(shù)：通過(guò)掃描焦炭切塊樣品，可提供平均孔隙率（%）、平均孔徑（um）、平均壁厚（um）、孔徑區(qū)間分布及壁厚區(qū)間分布含量等數(shù)據(jù)及相應(yīng)圖表。
*(5)半自動(dòng)（人工）檢測(cè)焦炭光學(xué)組織功能：可按照YB/T 077-1995焦炭光學(xué)組織的測(cè)定方法進(jìn)行焦炭光學(xué)組織測(cè)量。
*(6)其它組分測(cè)量功能：可自定義測(cè)量其它需要統(tǒng)計(jì)含量的組成。
7.鏡質(zhì)組反射率人工檢測(cè)技術(shù)條件
滿足MT/T 1053-2008《測(cè)定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計(jì)技術(shù)條件》要求。
符合GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測(cè)定方法》的要求。
檢測(cè)光譜主峰為546nm，半峰寬8 nm。
檢測(cè)精度：可分辨0.0001反射率變化。
檢測(cè)區(qū)直徑約2um。
線性：任一標(biāo)樣理論與實(shí)測(cè)值不超過(guò)±0.02%。
穩(wěn)定性：連續(xù)檢測(cè)任一標(biāo)樣30min，波動(dòng)的值與最小值之差不超過(guò)理論值2%。
對(duì)于所測(cè)量的煤的鏡質(zhì)體反射率電信號(hào)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析處理，自動(dòng)得出相應(yīng)的直方圖。
測(cè)試結(jié)果可用于仲裁。
8.標(biāo)準(zhǔn)樣品技術(shù)條件
配備藍(lán)寶石、釔鋁石榴石、釓鎵石榴石三個(gè)一級(jí)標(biāo)樣，符合MT/T 1053-2008《測(cè)定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計(jì)技術(shù)條件》要求。
9.煤巖磨片成套設(shè)備，包括雙盤研磨、雙盤拋光、熱成型工具及專用浸油等耗材。
10.售后服務(wù)
軟件終生免費(fèi)升級(jí)，所有煤巖反射率及組份測(cè)試新標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布，都能夠及時(shí)更新軟件，滿足新發(fā)布的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)要求。
11．供貨清單總表
| 序號(hào) | 名 稱 | 規(guī)格型號(hào) | 產(chǎn)地 | 數(shù)量 | 備注 |
| 1 | 顯微鏡 | Leica DM 4 P研究級(jí) | 德國(guó) | 1臺(tái) | |
| 2 | 自動(dòng)移動(dòng)物臺(tái) | MSP9000C | 德國(guó) | 1臺(tái) | |
| 3 | 顯微攝像頭 | MSP 9000C | 德國(guó) | 1臺(tái) | |
| 4 | 圖像自動(dòng)采集系統(tǒng) | MSP 9000C | 德國(guó) | 1套 | |
| 5 | 煤巖自動(dòng)測(cè)試系統(tǒng) | MSP 9000C | 德國(guó) | 1套 | |
| 6 | 計(jì)算機(jī)、顯示器 | 聯(lián)想THINKCENTRE M8400t商務(wù)機(jī)CPU：I7-3.4G；內(nèi)存：4G；硬盤：1T；顯示器：21.5英寸。 | 中國(guó) | 1臺(tái) | |
| 7 | 打印機(jī) | HP 1108激光 | 中國(guó) | 1臺(tái) | |
| 8 | 煤巖制樣設(shè)備 | 鑲嵌機(jī) 磨片機(jī) 雙盤拋光機(jī) 超聲波清洗機(jī) | 上海 | 1套 | |
| 9 | 標(biāo)準(zhǔn)樣品 | 一級(jí)標(biāo)樣（藍(lán)寶石、釔鋁石榴石、釓鎵石榴石） | 西安 | 1套 | |
| 10 | 穩(wěn)壓器 | | 德力西 | 1臺(tái) | |
| 11 | 耗材 | 專用浸油、砂紙等 | | 1套 | |
以下為各部分具體詳細(xì)清單：
顯微鏡（Leica DM 4 P）配置與配件表
| 序號(hào) | 產(chǎn)品部件名稱 | 規(guī)格型號(hào) | 產(chǎn)地 | 數(shù)量 | 備 注 |
| 1 | 偏光顯微鏡主體 | | 德國(guó)LEICA | 1臺(tái) | 德國(guó)原裝LEICA(徠卡)生產(chǎn)； Basic stａnd DM4 P TL/RL LED, DM4500主機(jī)座，包含透射光路、調(diào)焦機(jī)構(gòu), 電源部分和液晶顯示以及色溫恒定CCIC控制系統(tǒng) |
| 2 | 底板有濾色片盒 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Ground plate with filter magazine |
| 3 | 6孔可對(duì)中物鏡轉(zhuǎn)換頭和反射光路 | | 德國(guó)LEICA | 1套 | |
| 4 | 電動(dòng)控制孔徑光闌和視場(chǎng)光闌 | | 德國(guó)LEICA | 1套 | |
| 5 | DIC插槽 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Aufnahme für DIC Prismen/Kompensator |
| 6 | 三目筒 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Basic Docu Tube POL BDTP |
| 7 | 出口適配器 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Tube adapter incl. docu. port |
| 8 | 360°旋轉(zhuǎn)載物臺(tái) | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | DM4500 POL stage with 45° clickstops |
| 9 | 燈箱(用于反射光路) | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Lamp housing LED |
| 10 | Smith反射器 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | POL cube to Smith, fixed |
| 11 | 目鏡(有測(cè)微尺) | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Eyepiece HC PLAN s 10x/22 Br.M +reticule |
| 12 | 目鏡 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Eyepiece HC PLAN s 10x/22 Br. M |
| 13 | 反射光起偏器 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Polarizer L ICR/P w. whole-wave plate |
| 14 | 360°檢偏器 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Analyzer 360° |
| 15 | 入補(bǔ)償片 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Whole-wave plate |
| 16 | 10X干物鏡 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Obj. HC PL EPI 10x/0.25 Pol |
| 17 | 50X物鏡(油鏡) | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Obj. HC PL EPI 50x/0.85 Oil POL |
| 18 | 反射光濾色片插槽 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Filter slider for IL axis |
| 19 | 日光型濾片(反射光用) | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Daylight filter DLF |
| 20 | 測(cè)微臺(tái)尺 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Stage micrometer |
| 21 | 防塵罩 | | 德國(guó)LEICA | 1個(gè) | Dust cover for DM 4 P |
| 22 | 壓平器 | | 上海 | 1個(gè) | |
| 23 | 內(nèi)六角隨機(jī)工具 | | 德國(guó)LEICA | 1套 | |
制樣設(shè)備部分
| 1 | 雙盤預(yù)磨機(jī) | YM-2A | 上海金相 | 1臺(tái) | 雙盤 |
| 2 | 雙盤拋光機(jī) | PG-2B | 上海金相 | 1臺(tái) | 雙盤，可單盤控制 |
| 3 | 鑲嵌機(jī) | XQ-1型 | 上海金相 | 1臺(tái) | 直徑30mm |
| 4 | 可調(diào)電阻爐 | | 上海 | 1臺(tái) | 1000W |
| 5 | 小型刀片式粉碎機(jī) | XFB-200 | 上海 | 1臺(tái) | |
| 6 | 篩子 | 1mm | | 1套 | 1MM,0.1MM,0.06MM方孔標(biāo)準(zhǔn)篩，頂蓋、底座各1個(gè) |
| 7 | 電吹風(fēng) | | 上海 | 1個(gè) | |
注：如需塊焦切割機(jī)可選配。
耗材及輔助件類清單
| 序號(hào) | 產(chǎn)品名稱 | 規(guī)格型號(hào) | 數(shù)量 | 備 注 |
| 1 | 煤巖專用拋光劑 | KD-01P | 5Kg | |
| 2 | 煤巖專用拋光布 | KD-02P | 3張 | |
| 3 | 粗磨耐水砂紙 | KD-01M | 100張 | |
| 4 | 細(xì)磨耐水砂紙 | KD-02M | 100張 | |
| 5 | 煤巖專用鑲嵌膠粉 | KD-01Z | 1Kg | |
| 6 | 煤巖專用浸油 | KD-01C | 2瓶 | 23℃ Ne=1.518 |
| 7 | 擦鏡紙 | KD-02C | 10本 | |
| 8 | 水平膠泥 | KD-03C | 1塊 | |
| 9 | 載玻片 | KD-04C | 1盒 | |
| 10 | 磨口滴瓶帶滴管 | 25ml | 3個(gè) | |
| 11 | 吸耳球 | | 1個(gè) | |
| 12 | 塑料燒杯 | 500ML | 2個(gè) | |
| 13 | 裁紙刀 | | 1把 | |
| 14 | 坩堝 | | 15個(gè) | |
| 15 | 小鑰勺 | | 5個(gè) | 不銹鋼 |
| 16 | 線手套 | | 2副 | |
| 17 | 攪拌棒 | | 5根 | |
| 18 | 標(biāo)簽液 | | 2瓶 | 書寫樣品標(biāo)號(hào) |
| 19 | 預(yù)磨機(jī)膠圈 | | 2個(gè) | |
| 20 | 插排 | | 2個(gè) | 六孔以上 |
| 21 | 鼠標(biāo)墊 | | 1個(gè) | |
| 22 | 產(chǎn)品說(shuō)明書 | | 1份 | 電子版 |
采購(gòu)中心
