日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC
平行光曝光系統(tǒng)
設(shè)計(jì)緊湊的平行光曝光系統(tǒng)。
這種準(zhǔn)直鏡式平行光曝光系統(tǒng)使用一個(gè)超高壓汞燈作為點(diǎn)光源。 主要部件由光源、吸式曝光臺(tái)和面罩單元組成，曝光方式可以是真空接觸（硬接觸）曝光方式。 也可根據(jù)要求提供接近系統(tǒng)。
對(duì)于曝光控制，安裝了一個(gè)集成的測光表，以方便設(shè)置正確的曝光量。
基本信息
日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC
基本規(guī)格。
工件尺寸：150毫米×150毫米，厚度約0.1 - 1.0毫米
光學(xué)性能：超高壓汞燈1KW（風(fēng)冷），波長約300-470納米（主波長365、405、436納米）。
紫外線照度約為40 mw/cm^2的初始值（@365 nm），照度分布為90% min。
射線平行度：準(zhǔn)直半角≤1.5°，傾角≤1.0°。
曝光快門：用空氣驅(qū)動(dòng)的快門打開/關(guān)閉
曝光控制：取決于集成測光表（控制波長為365納米），20通道記憶
面罩（基本）： □8英寸玻璃面罩，3.0毫米或5.0毫米厚
曝光臺(tái)：吸氣臺(tái)，前/后可移動(dòng)，內(nèi)置真空泵
上層框架類型：專用玻璃罩框架或麥拉框架
公用設(shè)施：電源3相200V 50/60 Hz，斷路器開關(guān)30A，10.5KVA
壓力空氣約0.5 Mpa
廢氣：約8 m^3/min
外部尺寸：(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm
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