實驗室CVD系統(tǒng)由供氣系統(tǒng)+管式爐+抽氣系統(tǒng)組成,實驗室CVD系統(tǒng)采用常規(guī)管式爐配合相應(yīng)的流量控制系統(tǒng)和配套真空泵實 現(xiàn)整套的氣相沉積系統(tǒng),加熱可選 擇1200℃、1400℃、1700℃各種溫區(qū)管式爐,氣體配置可選1路、2路、3路、5路浮子流量計或質(zhì)量流量計,真空系統(tǒng)可以選擇0.5-8升機械泵、擴散泵、分子泵機組。真空度可達10-5PA。洛陽西格馬可生產(chǎn)四通道雙溫區(qū)cvd系統(tǒng)、爐膛可移動式CVD、PECVD系統(tǒng)設(shè)備。
CVD系統(tǒng)管式爐是一款小型化學(xué)氣相沉積薄膜類制備設(shè)備,實驗室CVD系統(tǒng)包括:供氣系統(tǒng)集成、真空系統(tǒng)集成等。體現(xiàn)出體積小、操作方便、智能化程度高等特點。
爐膛可移動式CVD介紹:
爐膛可移動式CVD系統(tǒng)是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計,特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究。通過滑動爐子可以實現(xiàn)物料的快速加熱和冷卻。
爐膛可移動式CVD技術(shù)參數(shù):
CVD名稱 | 1200℃雙管滑道式CVD系統(tǒng) |
電爐名稱 | 爐膛可移動式雙管管式爐 |
爐管尺寸 | 雙石英管 外管:OD 100 x ID 96 x 1400 mm 內(nèi)管:OD 80 x ID 75 x 1800 mm |
加熱區(qū) | 220+220mm |
供電電源 | 230V,單相,50HZ |
功率 | 4.0 kw |
加熱元件 | 電阻絲 |
升溫速率 | 0-20°C/min |
熱電偶 | K型 |
水冷系統(tǒng) | 1.水冷機 CW-3000 2.水冷,密封雙管的真空法蘭:允許反應(yīng)氣體通過兩管之間(10mm間隙)發(fā)生反應(yīng),冷卻氣體直接通入內(nèi)管. |
真空系統(tǒng) | 1. 防腐數(shù)顯真空計 2. VRD-16旋片泵,抽速4L/S,含擋板閥 KF25接口,波紋管和箱體 |
雙路流量計混氣系統(tǒng)(可選質(zhì)子流量計或浮子流量計) |
CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)質(zhì)量流量控制器技術(shù)參數(shù)
名稱 | 雙通道 | 三通道 | 四通道 | 五通道 |
CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) | 工作溫度:5~45ºC 重復(fù)精度: ±0.2%F.S. | 工作溫度:5~45 ºC | 工作溫度:5~45 ºC 重復(fù)精度: ±0.2%F.S. | 工作溫度: 5~45 ºC |
輸入電源 | AC 220V/50Hz單相 | |||
功率 | 23W | |||
PLC觸摸屏 | CVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)各通道的氣路設(shè)定和查看都集中在觸摸屏上 | |||
機械壓力表 | 有一機械壓力表安裝于前面板上,與混氣罐相連接 量程:-0.1~0.15 MPa | |||
針閥 | 316 不銹鋼 | |||
通氣管道 | 內(nèi)部連接管道為Φ不銹鋼管 外部通氣管道為Φ聚四氟管 | |||
混氣罐 | Φ80X120mm | |||
截止閥及配件 | ·316不銹鋼針閥 Φ6mm 不銹鋼管 | |||
外形尺寸 | 600mm(L)x745mm(W)x700mm(H) | |||
質(zhì)量認(rèn)證 | CE認(rèn)證 | |||
質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,終身維護 |