設備特點
超高真空除氣設備主要用于電子真空器件及半導體器件制備時的抽真空和烘烤除氣,是無油、超高真空系統(tǒng)。可根據(jù)用戶使用要求定制1~8工位,應用于電子半導體行業(yè)。
設備性能
1、系統(tǒng)內極限真空度:5×10-8Pa;
2、真空室極限真空度:5×10-5Pa;
3、加熱爐尺寸φ500×800mm;
4、加熱溫度500~600℃。
設備特點
超高真空除氣設備主要用于電子真空器件及半導體器件制備時的抽真空和烘烤除氣,是無油、超高真空系統(tǒng)。可根據(jù)用戶使用要求定制1~8工位,應用于電子半導體行業(yè)。
設備性能
1、系統(tǒng)內極限真空度:5×10-8Pa;
2、真空室極限真空度:5×10-5Pa;
3、加熱爐尺寸φ500×800mm;
4、加熱溫度500~600℃。
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