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高純度微納米氧化鋁漿料高速分散機(jī)

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公司名稱太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)XMD2000/SA25
所在地蘇州市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2024/6/3 10:12:13
訪問(wèn)次數(shù)392

產(chǎn)品標(biāo)簽:

氧化鋁分散機(jī)微納米分散機(jī)高純度氧化鋁分散氧化鋁漿料分散機(jī)高速分散機(jī)

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司坐落在享有“德企之鄉(xiāng)”之稱的太倉(cāng)，公司成立伊始便與眾多德資企業(yè)有技術(shù)方面的交流合作，通過(guò)結(jié)合優(yōu)良技術(shù)和科學(xué)管理模式，形成了完整的研發(fā)，組裝，檢測(cè)，及營(yíng)銷體系。著力打磨混合領(lǐng)域*產(chǎn)品，為客戶提供*的流體設(shè)備和成套工藝技術(shù)解決方案，包括研磨、乳化、分散、均質(zhì)、攪拌、混合、干燥、冷卻、燒結(jié)、熔融等工藝，提供工業(yè)生產(chǎn)中真空乳化機(jī)成套設(shè)備、粉體自動(dòng)化配料系統(tǒng)、交鑰匙工程大成套設(shè)備、多功能成套生產(chǎn)系統(tǒng)工藝過(guò)程監(jiān)測(cè)、DCS 控制技術(shù)等。

公司產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于食品工業(yè)、生物醫(yī)藥、日常護(hù)理品、納米材料、涂料油墨、石油化工、印染助劑、造紙工業(yè)、農(nóng)藥化肥、塑料橡膠、電力電子，精細(xì)化工、等行業(yè)。在新型高分子材料化工材料、精細(xì)化工，如石墨烯，瀝青，新型鋰電池，化妝品，制藥應(yīng)用尤為顯著及廣泛。

公司位于風(fēng)景優(yōu)美的千年古鎮(zhèn)沙溪鎮(zhèn)，交通位置*，公司處于G15沈海高速沙溪出口，距離滬通高鐵太倉(cāng)站10公里，距離上海虹橋樞紐（虹橋機(jī)場(chǎng)、高鐵站）1小時(shí)車程，距離太倉(cāng)港15公里。

“行有矩，為有道，事可成”是希德人給世界的承諾，服務(wù)萬(wàn)千用戶，不忘初心，勇往直前。

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乳化機(jī)，均質(zhì)機(jī)，分散機(jī)，研磨機(jī)，膠體磨，離心干燥機(jī)，冷水機(jī)，高溫?zé)Y(jié)爐，真空乳化機(jī)成套設(shè)備，粉體自動(dòng)化配料系統(tǒng)，交鑰匙工程大成套設(shè)備，多功能成套生產(chǎn)工藝過(guò)程監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，DCS 控制技術(shù)

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高純度微納米氧化鋁漿料高速分散機(jī)XMD2000是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm，強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)在于，粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時(shí)分散十分重要，而砂磨機(jī)難以分散。

高純度微納米氧化鋁漿料高速分散機(jī) 產(chǎn)品信息

高純度微納米氧化鋁漿料高速分散機(jī)

氧化鋁漿料分散機(jī),氧化鋁水性漿料高速分散機(jī),氧化鋁水性漿料納米分散機(jī),氧化鋁水性漿料超細(xì)分散機(jī),氧化鋁漿料分散機(jī)

一、氧化鋁的廣泛應(yīng)用

氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好、導(dǎo)熱絕緣性能好等優(yōu)點(diǎn)，已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無(wú)機(jī)膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、導(dǎo)熱相變材料、CCL、環(huán)氧塑封料、環(huán)氧澆注料填充劑、導(dǎo)熱鋁基板、導(dǎo)熱硅膠墊、導(dǎo)熱灌封膠、導(dǎo)熱硅脂、導(dǎo)熱膠泥、導(dǎo)熱雙面膠有機(jī)溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

二、氧化鋁的分散問(wèn)題

近年來(lái)，已超細(xì)氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細(xì)氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個(gè)超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因?yàn)橄嗷ノ鴪F(tuán)聚，易于失去超細(xì)粉體*的性能，因此超細(xì)氧化鋁粉體的分散，是超細(xì)氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機(jī)微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點(diǎn)。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

當(dāng)物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來(lái)獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦XMD2000系列研磨分散機(jī)，*的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。

三、微納米氧化鋁漿料分散設(shè)備

結(jié)合多家化工企業(yè)案例，我司推薦XMD2000系列研磨式超高速分散機(jī)進(jìn)行氧化鋁分散，一般可獲得超細(xì)的物料粒徑，一般為1-2μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。

XMD2000是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm，強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)在于，粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時(shí)分散十分重要，而砂磨機(jī)難以分散。
XMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID（蘇州）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三層變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種分散頭供客戶選擇）。

四、高純度微納米氧化鋁漿料高速分散機(jī)

上面介紹的是中試和工業(yè)級(jí)使用的分散機(jī)，若需要在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行小試，可以使用SID的SA25型手持式高剪切分散機(jī)，該款產(chǎn)品可以達(dá)到28000rpm的超高轉(zhuǎn)速，團(tuán)聚顆粒經(jīng)過(guò)工作頭下方吸料進(jìn)入剪切區(qū)域，被瞬間撕裂，同時(shí)在顆粒表面形成靜電電荷，達(dá)到混為排斥進(jìn)而不再團(tuán)聚的效果。

參數(shù)規(guī)格：

型號(hào)----SA25

功率----500W/320W

電源----220V/50/60HZ

轉(zhuǎn)速范圍----10000-28000rpm

轉(zhuǎn)速顯示方式----刻度顯示

調(diào)速方式----無(wú)級(jí)調(diào)速

處理量----0.2ml-5000ml(H2O)

標(biāo)準(zhǔn)工作頭----25F

接觸物料材質(zhì)----SUS304/SUS316L

浸入物料軸套材質(zhì)----PTFE

可選附件----容器固定夾