詳細(xì)說明:
化工及半導(dǎo)體制造業(yè)對水的凈化要求*,用于清洗集成電路用水或化工用水,一般要求電阻率達(dá)到18兆歐。安吉爾實業(yè)有限公司生產(chǎn)的化工行業(yè)及電子行業(yè)高純水設(shè)備利用RO元件和EDI裝置,會同一些特殊的水處理方法,得到的高純水符合化工及半導(dǎo)體制造業(yè)用水的高要求。
電子工業(yè)用超純水概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
電子工業(yè)用超純水設(shè)備的工藝流程
電子工業(yè)用超純水設(shè)備的工藝大致分成以下幾種:
1、電子工業(yè)用超純水設(shè)備采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
2、電子工業(yè)用超純水設(shè)備采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
3、電子工業(yè)用超純水設(shè)備采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式,這是一種制取超純水的工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸?/font>→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→純水箱→
目前電子工業(yè)用超純水設(shè)備制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種,其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來。現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面:
1、*種采用離子交換樹脂其優(yōu)點在于初投資少,占用的地方少,但缺點就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生,耗費大量酸堿,而且對環(huán)境有一定的破壞。
2、第二種采用反滲透作為預(yù)處理再配上離子交換設(shè)備,其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高,但離子設(shè)備再生周期相對要長,耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。
3、第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子(EDI)裝置,這是目前制取超純水,zui環(huán)保用來制取超純水的工藝,不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水,對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。
電子工業(yè)用超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成前期預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人職守,同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統(tǒng)一的方法,使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。