杭州泰基氣體設(shè)備有限公司是一家股份制*，是一家集研究、開發(fā)、制造制氮機（PSA制氮設(shè)備）、工業(yè)制氧機（PSA制氧設(shè)備）、氣體純化、壓縮空氣凈化等氣體設(shè)備，還承接各種氣體非標(biāo)設(shè)備的設(shè)計、制造和技術(shù)咨詢。
碳分子篩變壓吸附（簡稱:PSA）制氮機，是一種新型的空氣分離的*設(shè)備，以壓縮空氣為原料，碳分子篩為吸
附劑，采用變壓吸附流程制取氮氣。在常溫常壓下，利用空氣中的氧和氮在碳分子篩表面的吸附量的差異及氧和氮在碳分子篩中的擴散速率不同,通過可編程序控制器控制氣動閥的啟閉，實現(xiàn)加壓吸附、減壓脫附的過程，完成氧、氮分離，得到所需純度氮氣，氮氣的純度和產(chǎn)氣量可按照客戶要求調(diào)節(jié)。本公司生產(chǎn)的RDN系列普氮型制氮機，氮氣純度為95%--99.999%，產(chǎn)氣量為1Nm3 /h--3000Nm3 /h。
如果客戶要求高純度的氮氣，則可以在TJN制氮機后面配套我公司生產(chǎn)的加氫或加碳脫氧系列氮氣純化裝置，純度可以達到99.999%，露點達到-60°C，氧含量為10ppm的高純氮氣。
PSA制氮機的特點
成本低：PSA*工藝是一種簡便的制氮方法，開機后幾分鐘產(chǎn)生氮氣，能耗低，氮氣成本遠遠低于深冷法空分制氮和市場上的液氮。
2、性能可靠：進口微電腦全自動操作，無需要特別訓(xùn)練的操作人員，只需按下啟動開關(guān)，就可自動運轉(zhuǎn)，達到連續(xù)供氣。
3、氮氣純度穩(wěn)定：*由儀表、顯示，確保所需氮氣純度。
4、選用優(yōu)質(zhì)進口分子篩：具有吸附容量大，抗壓性能強，使用壽命長等特點。
5、高品質(zhì)的控制閥門：優(yōu)質(zhì)的進口氣動閥門可以保證制氮設(shè)備可靠地運轉(zhuǎn)。
6、雄厚的技術(shù)力量和優(yōu)良的售后服務(wù)：現(xiàn)場安裝只需管道和電源，專業(yè)技術(shù)人員指導(dǎo)和定期回訪，從而保證設(shè)備穩(wěn)定可靠、*運行。
PSA制氮機的應(yīng)用領(lǐng)域
一．SMT行業(yè)應(yīng)用
充氮回流焊及波峰焊，用氮氣可有效抑止焊錫的氧化,提高焊接潤濕性，加快潤濕速度減少錫球的產(chǎn)生，避免橋接，減少焊接缺陷，得到較好的焊接質(zhì)量。使用氮氣純度大于99.99或99.9%。
二．半導(dǎo)體硅行業(yè)應(yīng)用
半導(dǎo)體和集成電路制造過程的氣氛保護，清洗，化學(xué)品回收等。
三．半導(dǎo)體封裝行業(yè)應(yīng)用
用氮氣封裝、燒結(jié)、退火、還原、儲存。維通變壓吸附制氮機協(xié)助業(yè)類各大廠家在競爭中贏得先機，實現(xiàn)了有效的價值提升。
四．電子元器件行業(yè)應(yīng)用
用氮氣選擇性焊接、吹掃和封裝。科學(xué)的氮氣惰性保護已經(jīng)被證明是成功生產(chǎn)高品質(zhì)電子元器件一個*的重要環(huán)節(jié)。
五．化工、新材料行業(yè)行業(yè)應(yīng)用
用氮氣在化工工藝中創(chuàng)建無氧氣氛，提高生產(chǎn)工藝的安全性，流體輸送動力源等。石油： 可應(yīng)用于系統(tǒng)中管道容器等的氮氣吹掃，儲罐充氮、置換、檢漏，可燃性氣體保護，也應(yīng)用于柴油加氫和催化重整。
六．粉末冶金，金屬加工行業(yè)，熱處理行業(yè)應(yīng)用
鋼、鐵、銅、鋁制品退火、炭化，高溫爐窯保護，金屬部件的低溫裝配和等離子切割等。
七.食品行業(yè)應(yīng)用
主要應(yīng)用于食品包裝、食品保鮮、食品儲存、食品干燥和滅菌、醫(yī)藥包裝、醫(yī)藥置換氣、醫(yī)藥輸送氣氛等。
八. 其他使用領(lǐng)域
制氮機除了使用在以上行業(yè)以外，在煤礦、注塑、釬焊、輪胎充氮橡、橡膠硫化等眾多領(lǐng)域也得到廣泛使用。隨著科技的進步和社會的發(fā)展，氮氣裝置的使用領(lǐng)域也越來越廣泛，現(xiàn)場制氣（制氮機）以其投資省、使用成本低、使用方便等優(yōu)點已經(jīng)逐漸取代液氮蒸發(fā)、瓶裝氮氣等傳統(tǒng)供氮方式。
工藝流程原理
變壓吸附的原理是在吸附平衡情況下，任何一種吸附劑在吸附同一氣體時，氣體壓力越高，則吸附量越大，反之，壓力越低，則吸附量越小。PSA制氮設(shè)備的核心部分是碳分子篩，在空氣壓力升高時，碳分子篩將大量吸附氧氣、二氧化碳和水分，當(dāng)壓力降到常壓時，碳分子篩對氧氣、二氧化碳和水分的吸附量非常小。
制氮裝置的技術(shù)指標(biāo)：
流量3-3000Nm3 /h，
純度95%-99.9999%，
壓力≤0.8MPa，
露點≤-45℃.
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