5702系列冷卻水循環(huán)裝置
應(yīng)用：
各種制冷功率輸出可以滿足從大型工業(yè)設(shè)備到小型實驗室分析儀器的冷卻：
- 激光設(shè)備、電鏡、X光儀、X光機
- 注塑機、模壓機、焊接機、印刷機、材料試驗機
- 核磁共振儀、直線加速器、原子吸收光譜儀、等離子光譜儀、質(zhì)譜儀
- 蒸餾水制造設(shè)備、真空系統(tǒng)、夾套式反應(yīng)裝置、發(fā)酵裝置、凍融循環(huán)試驗
主要特點
l 動態(tài)恒溫控制系統(tǒng)，響應(yīng)快，恒溫波動度小。
l 制冷系統(tǒng)關(guān)鍵部件如壓縮機、膨脹閥、電磁閥和循環(huán)風(fēng)扇采用進口產(chǎn)品，確保儀器高效連續(xù)運行。
l 采用日本進口全不銹鋼渦流循環(huán)泵，循環(huán)流量大，zui高壓力達到5bar以上。
l 同時裝備風(fēng)冷和水冷冷卻系統(tǒng)，可以避免試驗環(huán)境溫度上升和過高環(huán)境溫度下儀器的正常運轉(zhuǎn)。
性能指標
| 型號 | XT5702RC- E2000FW | XT5702RC- E3000FW | XT5702RC- E4000FW | XT5702- E6000FW | |||
| 溫度范圍@20℃室溫 | ℃ | -10…40 | |||||
| 恒溫波動度 | ±k | 0.05…1.0 | |||||
| 制冷量 @20℃室溫 | +20℃ | W | 2000 | 3000 | 4000 | 6000 | |
| 5℃ | 1000 | 1500 | 2000 | 3200 | |||
| -10℃ | 450 | 750 | 1100 | 1800 | |||
| 數(shù)顯分辨力 | ℃ | 0.1 | |||||
| 循環(huán)泵zui大壓力 | Bar | 3.0 | 4.5 | 5.0 | 5.0 | ||
| 循環(huán)泵 流 量 | @2bar | L/min | 8 | 24 | 40 | 40 | |
| @3bar | 5 | 18 | 32 | 32 | |||
| @4bar | - | 15 | 25 | 25 | |||
| 液槽尺寸 | mm | Ø300X300 | |||||
| 外形尺寸（W×D×H） | mm | 600×730×1000 | |||||
| 加液口尺寸 | | Ø75 | |||||
| 工作方式 | | 連續(xù) | |||||
| 保護 | 高溫保護、低溫保護，高壓保護、低壓保護 | ||||||
| 電源 | AC380V，3A | AC380V，3A | AC380V，4A | AC380V，6A | |||
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