半導體行業(yè)超純水設(shè)備

一．設(shè)備簡介

半導體 超純水設(shè)備 是應(yīng)用 于半導體 生產(chǎn) 零件 清洗 的超純水設(shè)備 ，需要 符合 特定 的用水 水質(zhì)標準 ,半導體 超純水設(shè)備 出水 水質(zhì) 要符合 美國 ASTM 純水 水質(zhì)標準 、中國電子 工業(yè)電子級水質(zhì) 技術(shù)標準 (18 MΩ.cm 、15 MΩ.cm 、10 MΩ.cm 、2MΩ.cm 、0. 5M Ω.cm )、半導體 工業(yè)用 純水 指標 、集成電路 水質(zhì)標準 。 

宏潔 水務(wù) 在滿足用戶 用水 標準 的基礎(chǔ) 上，在設(shè)備 系統(tǒng) 中水箱均設(shè)有 液位 控制系統(tǒng) 、水泵 均設(shè)有 壓力 保護裝置 、在線 水質(zhì)檢測 控制儀表、電氣 采用 PLC可編程控制器，真正 做到 了無人 職守 ，同時 在工藝 選材 上采用 推薦 和客戶 要求 的方法 ，使設(shè)備 與其它 同類產(chǎn)品 相比較 ，具有 更高 的性價比 和設(shè)備 可靠性 。

二．設(shè)計標準 及依據(jù)

1.根據(jù) 用戶 提供 的詳細 水質(zhì) 報告 “量身定制 ”。

2.水處理設(shè)備 技術(shù) 條件 《JB /T29 32 -1999 》

3.反滲透 水處理設(shè)備 標準 《CJ /T1 19 -2000 》

4. 低壓開關(guān) 設(shè)備 和控制設(shè)備 成套 裝置 《IEC 439-1》

5. 實驗室 超純水 技術(shù)指標 標準 《GB6 682 -2008 》

6.電子 級超純水 規(guī)格 《GB /T1 1446.1-1997 》

三．工藝流程

1、原水 －原水 加壓泵 －多介質(zhì) 過濾器 －活性炭過濾 器－軟水器 －精密過濾器 －級反滲透－PH 調(diào)節(jié) －中間 水箱 －級反滲透 －純化 水箱 －純水泵 －EDI系統(tǒng) －超純水 箱－純水泵 －拋光 裝置 －終端 超濾 －用水 點

四．設(shè)計 特點

1.系統(tǒng) 采用 全自動 控制 (同時 亦可 采用 手動 控制 ），系統(tǒng) 運行 時可設(shè)定 自動 反洗 、再生 程序 ；

2.各單元 接線 均在工廠 內(nèi)完成 ，減少 安裝 調(diào)試 時間 ；

3.一級 反滲透 和二級 反滲透 設(shè)有 回流 管道 ，反滲透設(shè)備 設(shè)有 化學清洗 裝置 ；

4. 管道 一般 采用 UPVC 材質(zhì) ；

5. 集成 控制系統(tǒng) 和集成 儀表 系統(tǒng) 等，方便 操作 管理 ；

6.RO膜定時 清洗 具有 開機 和定時 清洗 RO