CIF等離子清洗機CPC-B

應(yīng)用領(lǐng)域

等離子清洗機在材料學(xué)，光學(xué)，電子學(xué)，醫(yī)藥學(xué)，環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等科研領(lǐng)域得了廣泛的應(yīng)用，主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原、去除有機物、鍍膜前處理、器械消毒等。

產(chǎn)品特點

v 智能化程序化控制，觸摸按鍵 +4.3 寸液晶顯示屏 + 雙浮子流量計組合系統(tǒng)控制；

v 手動、自動兩種工作模式。

v 自動匹配器。

v 美國Honeywell真空壓力傳感器。

v 美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計。

v 雙路氣體控制。

v 內(nèi)置式弧形等離子激發(fā)板。

v 全系統(tǒng)不銹鋼材質(zhì)。

v 數(shù)字和浮子流量計可選。

v 可選樣品臺升降裝置

v 安全保護(hù)，倉門打開，自動關(guān)閉電源。

v 免維護(hù)，無需任何耗材。

v 整機保修一年。

技術(shù)參數(shù)