詳細(xì)介紹
低能離子注入機(jī)
一:概述
低能離子注入機(jī)可以通過離子源產(chǎn)生超低能量的離子束,在經(jīng)過二極磁鐵偏轉(zhuǎn)之后,過濾掉不同荷質(zhì)比的離子,只留下所需的離子
種類和能量的離子束可以穿過。束流在靶室位置的束流強(qiáng)度符合石墨烯等二維材料的注入特性。
二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
一:概述
低能離子注入機(jī)可以通過離子源產(chǎn)生超低能量的離子束,在經(jīng)過二極磁鐵偏轉(zhuǎn)之后,過濾掉不同荷質(zhì)比的離子,只留下所需的離子
種類和能量的離子束可以穿過。束流在靶室位置的束流強(qiáng)度符合石墨烯等二維材料的注入特性。
二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
輻照區(qū)域 | 5*5cm |
能量范圍 | 100eV-2keV |
束流強(qiáng)度 | 均勻區(qū)域平均束流強(qiáng)度為幾十nA |
離子能量選擇 | 電磁鐵控制偏轉(zhuǎn), |
離子種類 | Ar+,He+,N+,H+,O+ (P+可選) |
極限真空度 | <1E-4Pa |
工藝真空范圍 | 5E-4Pa~5E-3Pa |
真空漏率 | ≤6.6×10-7 Pa.l/S |
工作電源 | 380v±5% 50HZ |