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快速熱壓燒結(jié)爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備介紹快速熱壓燒結(jié)是當(dāng)今的快速燒結(jié)技術(shù)之一
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海 更新時(shí)間:2023-12-25 參考價(jià): 面議 在線留言 -
真空熔煉爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備用途真空感應(yīng)熔煉爐是在真空條件下,利用中頻感應(yīng)加熱原理,使金屬熔化的真空冶煉成套設(shè)備
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氣氛燒結(jié)爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備特點(diǎn)
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真空燒結(jié)爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備用途本設(shè)備廣泛應(yīng)用于無機(jī)材料(如陶瓷密封件、碳化硅、氧化鋯、氧化鋅、氧化鋁等)、及金屬材料(如硬質(zhì)合金)在真空或保護(hù)氣氛中燒結(jié)制備,也可用于稀土元素及其氧化...
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升降式燒結(jié)爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備用途升降式燒結(jié)爐廣泛應(yīng)用于陶瓷工藝品燒制、磁性材料燒制、氧化鋯燒結(jié)、特種材料燒結(jié)與退火、新材料研發(fā)、工礦冶金等行業(yè)與領(lǐng)域的生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)
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真空熱壓爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備用途本設(shè)備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶瓷、無機(jī)化合物、納米材料等在真空或保護(hù)氣氛的條件下進(jìn)行加壓加熱燒結(jié)處理,以便獲得高致密度的產(chǎn)品,例如生...
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真空氣相沉積爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備用途本設(shè)備主要用于碳素制品的化學(xué)氣相沉積增密處理,或以碳?xì)錃怏w為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳?xì)种破氛婵仗蓟錈崽幚?
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紅外線鏡面反射爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備特點(diǎn)1.升溫速度快,可達(dá)300-500℃/min,降溫速度快,30分鐘可降至100℃以下;2.溫度可達(dá)1700℃;3.控溫精準(zhǔn),小巧精致
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CVD/CVI/PECVD系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 設(shè)備特點(diǎn)1.高真空系統(tǒng)由雙級(jí)旋片真空泵和分子泵組成,真空可達(dá)10-4Pa
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RTP快速爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備特點(diǎn)1.升降溫速度快,升溫采用環(huán)形紅外短波加熱器,升溫速率可達(dá)200℃/s,降溫時(shí)通過將爐膛退出,實(shí)現(xiàn)對產(chǎn)品的快速降溫
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生產(chǎn)用大型回轉(zhuǎn)爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備特點(diǎn)
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