太陽能半導體硅片腐蝕清洗設備

設備特點

·設備骨架用不銹鋼制作，外包白色PP板

·隔板：在1#、2#槽和3#、4#之間有隔板，1#槽單獨排風，防止1#槽中揮發(fā)得有機氣體與其他氣體混合發(fā)生反應

·設備共有4個槽，按藥液槽內，純水沖洗槽外和方便生產操作的一般工藝流程依次排列

·設備采用數顯時間繼電器，清洗時間可在1-9999秒范圍內設定，結束時報警排風系統通過設備后部夾層，從設備頂部接觸排氣管與用戶排氣系統連接成本

·氮四氟乙烯空1把/水槍1把 成本

·設有漏電、急停、液位、過溫等保護和報警裝置，保證設備的可靠成本

·適用于批量生產和科研試驗

設備規(guī)格

·單臂結構

·整體由機架，操作臺面，引風裝置，機臺照明，電控單元及清洗槽體等組成

·本半導體硅片清洗設備的引風裝置由引風窗和排風口所組成

·機臺臺面為多孔結構，有利于操作臺面水液的排出和清潔

·照明采用20W照明燈管

·本半導體硅片清洗機每個槽體均有控制器進行控制，其工藝參數均可單獨修改

·電控單元設備在機臺的左上部，控制鍵盤，啟停按鈕以及急停開關均設置其上

·加熱槽體采用氟加熱管，有保溫裝置