詳細摘要： 用途：用于碳還原法工藝做去碳等后處理

詳細摘要： 設備用途：該設備主要用于氮化硼陶瓷材料真空熱壓燒結(jié)成型

詳細摘要： 用途：底升式碳管燒結(jié)爐，底部出裝料是理想的碳基材料氣相、液相滲硅爐.主要配置：1.立式爐體，雙層爐體結(jié)構(gòu)，水冷夾套設計

詳細摘要： 用途：高溫石墨化爐用于燒結(jié)碳碳及碳陶復合材料產(chǎn)品.主要配置：1.立式爐體，雙層爐體結(jié)構(gòu)，水冷夾套設計

詳細摘要： 用途：CVD氣相沉積爐用于燒結(jié)碳碳及碳陶復合材料產(chǎn)品.主要配置：1.立式爐體，雙層爐體結(jié)構(gòu)，水冷夾套設計

詳細摘要： 用途：用于將碳基材料在高溫氣氛狀態(tài)下裂解制備碳碳復合材料.主要配置：1.立式爐體，雙層爐體結(jié)構(gòu)，水冷夾套設計

詳細摘要： 用途：用于碳化硅基板、粉體等陶瓷產(chǎn)品燒結(jié)主要配置：1.雙層爐體結(jié)構(gòu)

詳細摘要： 用途：用于氮化鋁、氮化硅、碳化硅等陶瓷產(chǎn)品

詳細摘要： 用途：主要于燒結(jié)氮化硅陶瓷基板主要配置：1.雙層水冷爐體設計，壓力容器鋼爐殼2.等靜壓石墨棒作發(fā)熱體，電阻加熱式3.充氣系統(tǒng)設有安全閥，壓力繼電器，可靠性強，安...

詳細摘要： 用途：主要用于燒結(jié)氮化鋁陶瓷粉體及基板主要配置：1.雙層水冷爐體設計，內(nèi)置水冷夾套2.等靜壓石墨棒作發(fā)熱體，電阻加熱式3.充氣氣氛氮或氬氣4.電氣控制采用PLC...

詳細摘要： 一、設備用途：臥式真空裂解爐主要用于碳化硅陶瓷、陶瓷復合材料等新材料的制備

詳細摘要： 一、設備用途：立式真空裂解爐主要用于碳化硅陶瓷、陶瓷復合材料等新材料的制備

詳細摘要： 一、設備用途：箱式帶爐罐真空排膠電阻爐系周期作業(yè)式電爐，主要用于真空及氣氛排膠