等離子除臭設(shè)備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。

低溫等離子除臭設(shè)備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。

等離子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。

低溫等離子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。

離子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。

離子除臭設(shè)備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。